'Universidad Autonoma de Zacatecas - Francisco Garcia Salinas'
Abstract
La deposición química de vapor (CVD) es una técnica de síntesis de
catalizadores con la cual se pueden preparar materiales con propiedades
catalíticas atractivas, como el producir catalizadores con alta dispersión de la fase
activa. Esta propiedad junto con las características de los materiales MCM-41,
hacen de esta técnica un proceso atractivo catalíticamente.
En este trabajo se realizó la síntesis de catalizadores de óxidos de cobre
sobre materiales MCM-41 modificados con Al. Los materiales Al-MCM-41 se
prepararon con diferente relación Si/Al. La CVD de cobre se llevó a cabo
empleando un reactor L de lecho fijo empleando acetilacetonato de Cobre (II)
como precursor del metal. Se empleó O2 como gas de arrastre y reactivo. Los
materiales se caracterizaron empleando los métodos de fisisorción de nitrógeno,
difracción de rayos X y espectrometría de masas con plasma de acoplamiento
inductivo. Con base a los resultados obtenidos, se determina que la estructura de
los materiales MCM-41 se mantiene sin modificaciones importantes después de
realizar el tratamiento de CVD, lo cual muestra que este proceso es adecuado
para la preparación de catalizadores de óxidos de cobre sobre materiales
mesoporosos del tipo MCM-41
