Nous avons étudié les propriétés structurales et physiques des multicouches Co/Si déposées par pulvérisation cathodique à 90 K dans le but de limiter la diffusion aux interfaces. Nous avons obtenu des multicouches très bien cristallisées quoique polycristIn this work we studied the structural and physical properties of the Co/Si multilayers deposited by sputtering at 90 K with the aim of limiting the interdiffusion at interfaces. We have obtained very well crystallized multilayers although polycristallin
