Biorecognition by DNA Oligonucleotides after Exposure to Photoresists and Resist Removers
- Authors
- Al-Mawlawi D.
- Barbee K. D.
- Bietsch A.
- Calvert P.
- Christine D. Keating
- Crespo-Hernández C. E.
- Cui Y.
- De Bont R.
- Delamarche E.
- Diakoumakos C. D.
- Dubey M.
- Dufva M.
- Flounders A. W.
- Ganesan R.
- Gary A. Clawson
- He B.
- Heller M. J.
- Hulteen J. C.
- Kane R. S.
- Kline T. R.
- LaFratta C. N.
- Lee L. M.
- Li M.
- Lindahl T.
- Lipshutz R. J.
- Mack C.
- McGall G.
- Mingwei Li
- Mir M.
- Sekula-Neuner S. Mitsakakis
- Morrow T. J.
- Nicewarner-Peña S. R.
- Nicewarner-Peña S. R.
- Nuwaysir E. F.
- Patolsky F.
- Pease A. C.
- Petrou P. S.
- Salaita K.
- Salomon S.
- Schena M.
- Schlenoff J. B.
- Shi J.
- Singh M.
- Sioss J. A.
- Sioss J. A.
- Smith B. D.
- Sorribas H.
- Soultanakis R. P.
- Stacey L. Dean
- Stivers J. T.
- Susan Patrick
- Theresa S. Mayer
- Thomas J. Morrow
- Trau D.
- Walton I. D.
- Willner I.
- Wu C.-C.
- Zheng G.
- Zheng Z.
- Publication date
- Publisher
- 'American Chemical Society (ACS)'
- Doi