Bourgin, Yannick

Cao, Xinrui

Feßer, Patrick

Fischer, David

Hofmann, Meike

Sinzinger, Stefan

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   TU Ilmenau | Universitätsbibliothek | ilmedia, 2019 http://www.tu-ilmenau.de/ilmedia Cao, Xinrui; Feßer, Patrick; Fischer, David; Hofmann, Meike; Bourgin, Yannick; Sinzinger, Stefan: Der Lau-Effekt in der lithographischen Mikro-Nanostrukturierung  Zuerst erschienen in: DGaO-Proceedings. - Erlangen-Nürnberg : Dt. Gesellschaft für angewandte Optik. -119 (2018), art. P44, 1 S. Erstveröffentlichung: 04.07.2018 ISSN: 1614-8436 URN: urn:nbn:de:0287-2018-P044-6 [Gesehen: 30.08.2019]  Technische Universität Ilmenau®IMN MacroNanoFachgebiet Technische OptikXinrui CaoTelefon: +49 3677 69-2489Fax:  +49 3677 69-1281xinrui.cao@tu-ilmenau.dewww.tu-ilmenau.de/toDGaO-Proceedings 2018 - http://www.dgao-proceedings.de - ISSN: 1614-8436 - urn:nbn:de:0287-2018-P044-6 eingegangen: 25.06.2018   veröffentlicht: 04.07.2018X. Cao, P. Feßer, D. Fischer, M. Hofmann, Y. Bourgin, S. SinzingerFachgebiet Technische Optik, Technische Universität IlmenauDer Lau-Effekt in der lithographischen Mikro-NanostrukturierungMacro®Nanocha es ,t  dp ieu  a OH ptik sti mmt!Literaturen Danksagung[1] J. Jahns and A.W. Lohmann, in „The Lau effect (a diffraction experiment with incoherent illumination)“, Optics communications 28(3), 263-267 (1979)[2] R. Sudol and B.J. Thompson, in „Lau effect: theory and experiment“, Applied optics 20(6), 1107-1116 (1981)[3] Mounted LED „M405L3", https://www.thorlabs.de/drawings/3d3893ab54c75ce2-B2F1D061-083F-3E93-B11CAEDC1A0E0E14/M405L3-SpecSheet.pdf[4] Laser „MDL-C-405-50mW“, http://www.cnilaser.com/PDF/MDL-C-405.pdf[5] Fotolack „ma-P 1275G“, https://www.microresist.de/en/products/positive-photoresists/greyscale-lithography/ma-p-1200gDie Autoren danken der Unterstützung durch die Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) im Rahmen des Graduiertenkollegs „Spitzen- und laserbasierte 3D-Nanofabrikation in ausgedehnten makroskopischen Arbeitsbereichen“ (GRK 2182/1) an der Technischen Universität Ilmenau, Deutschland.LithographieIm herkömmlichen Versuchsaufbau des Lau-Effekts beleuchtet eine inkohärente Lichtquelle das erste Ronchi Gitter, somit wird eine strukturierte Beleuchtung erzeugt. Diese strukturierte Beleuchtung wird dann zusammen mit einem zweiten identischen Ronchi Gitter durch eine Linse in die Fourier Ebene bzw. die Auffangebene des Versuchsaufbaus abgebildet. Unter der Annahme,  dass  d ie  Ronch i  G i t te r unendliche Ausdehnungen haben, entsteht in der Auffangebene eine periodische dreieckförmige Intensitätsverteilung [1,2], welche in der Lithographie zur 3D- Strukturierung genutzt werden kann. Wir testen in unserem Versuch unterschiedliche Kohärenzgrade der Lichtquellen [3,4] für den Lau-Effekt und untersuchen den Einfluss des Kohärenzgrades auf die lithographische Strukturierung.Motivation LichtquellenLichtquelle: LED, optische Leistung vor dem ersten Gitter: 10,1µW; Belichtungszeit: 1hLichtquelle: Laser, optische Leistung vor dem ersten Gitter: 5mW; Belichtungszeit: 2sVersuchsaufbauzum Lau-Effekt Messung der KohärenzfunktionFotolack: ma-P 1275G [5]MessergebnisIntensitäten der Lau-Streifen mit unterschiedlichen Lichtquellen und nach Einstellungdes Abstandes zwischen den zwei Ronchi Gittern (Periode: 200µm, Schlitzbreite: 30µm)

Der Lau-Effekt in der lithographischen Mikro-Nanostrukturierung

https://www.db-thueringen.de/servlets/MCRFileNodeServlet/dbt_derivate_00045187/1614-8436_119_2018_P44.pdf

Der Lau-Effekt in der lithographischen Mikro-Nanostrukturierung

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