Begründung und Optimierung eines Dünnschichtmodells zur Prognose optischer Eigenschaften oxidischer Beschichtungen durch in-situ Überwachung des Aufdampfprozesses.

Abstract

Ein Dünnschichtmodell zur Prognose optischer Eigenschaften oxidischer Beschichtungen wurde entwickelt. Dies dient zur Simulation von Beschichtungsprozessen unter Berücksichtigung prozesstypischer Abscheidefehler. In Betracht gezogen werden dabei Schwankungen in der Schichtdicke und den optischen Konstanten für jede virtuell abzuscheidende Schicht, wobei eine Stategie entwickelt wurde, die Eingangsdaten für die Simulation experimentell zu ermitteln. Der Vergleich mit durchgeführten Beschichtungsprozessen dient zur Verifikation der Simulation

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