Deposición de capas de grafeno mediante deposición química en fase vapor asistida por plasma

Abstract

[EN] The invention relates to a method for depositing high-quality graphene layers on a substrate by means of plasma-enhanced chemical vapour deposition, said graphene layers comprising nanocrystals of sizes that can be controlled with temperature and time and which are interconnected by amorphous phase. The invention also relates to said material deposited on a substrate and the use thereof as a component in touch panels or touch windows, protection systems, electrodes, hard disc read heads/platters, as a resistant coating, and as a component of a resistance heater.[ES] La invención se refiere a un procedimiento de deposición de capas de grafeno de alta calidad sobre un sustrato que se realiza mediante deposición química en fase vapor asistida por plasma, comprendiendo dichas capas de grafeno nanocristales de tamaños controlables con la temperatura y el tiempo interconectados por fase amorfa. Además, la invención se refiere a dicho material depositado sobre un sustrato y su uso como componente de ventanas o paneles táctiles, sistemas de protección, electrodos, elemento de cabezas lectoras/platos de disco duro, como recubrimiento resistente y como componente de un calefactor o calentador resistivo.Peer reviewedConsejo Superior de Investigaciones Científicas (España)A1 Solicitud de patente con informe sobre el estado de la técnic