Almeida Abreu Silva Ariel

Andrade-Neto A.V

Bohm David

Choi W.B

Cutler P.H

Forbes R.G

Fowler R.H.

Goldman I.I

Gradshteyn I.S

Haug Albert

Murphy E.L

Ribeiro Filho Aurino

S. de Andrade Nilson

Schottky W

Wood R.W

O fenômeno de emissão por campo é um processo no qual elétrons, por efeito túnel, são extraídos de superfícies sólidas sob influência de campo elétrico externo. Neste artigo apresentamos um cálculo para a probabilidade de tunelamento de elétrons através de superfícies metálicas. Consideramos uma barreira de potencial unidimensional e utilizamos a aproximação JWKB para o cálculo da probabilidade de penetração da barreira. São propostos dois modelos de potenciais unidimensionais e em ambos são incluídos explicitamente o potencial imagem e o campo elétrico. Esses modelos são semelhantes aos utilizados em trabalhos anteriores que tratam do processo de ionização por campo. No primeiro modelo separamos em regiões distintas as contribuições do potencial imagem e do campo elétrico externo, o que permite uma solução exata da integral a ser resolvida. No segundo modelo, o potencial imagem e o campo elétrico são considerados em todo o espaço, o que leva a uma integral cuja solução deixa de ser trivial. Contudo, conseguimos obter expressões analíticas, do tipo Fowler-Nordheim, relativamente gerais. Os resultados obtidos são discutidos e comparados com outros da literatura.</jats:p

N.L. Silva Júnior

A.V. Andrade-Neto

Crossref

Revista Brasileira de Ensino de Física

Expressões analíticas para a probabilidade de tunelamento em fenômeno de emissão por campo

http://www.scielo.br/pdf/rbef/v35n3/a06v35n3.pdf

Expressões analíticas para a probabilidade de tunelamento em fenômeno de emissão por campo

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