Kray, Daniel (Prof. Dr. rer. nat.)

The invention relates to the field of transporting flat substrates such as silicon substrates. In particular, the invention relates to particularly protective and continuous transport of such substrates. The method according to the invention is used to transport a vertically aligned flat substrate (1) comprising two flat sides in a transport direction inside a transport channel (2) that is at least partially filled with a liquid medium (F), wherein said liquid medium (F) flows against at least one of the flat sides of the substrate (1) and has a supporting component, which lifts the sum of the weight and buoyancy force of the substrate (1), and an advancing component, which is directed in the transport direction, so that the substrate (1) is supported and transported without mechanical aids. The device according to the invention comprises a transport channel (2) for accommodating a liquid medium (F) and a substrate (1) to be guided in vertical alignment within said medium (F), wherein the transport channel (2) has inflow openings (5) in the walls (3, 4).Die Erfindung betrifft das Gebiet des Transports flacher Substrate wie beispielsweise Siliziumsubstrate. Insbesondere betrifft die Erfindung den besonders schonenden und kontinuierlichen Transport solcher Substrate. Das erfindungsgemäße Verfahren dient dem Transport eines vertikal ausgerichteten flachen Substrats (1) mit zwei Flachseiten in eine Transportrichtung innerhalb eines zumindest teilweise mit einem flüssigen Medium (F) gefüllten Transportkanals (2), wobei das flüssige Medium (F) gegen mindestens eine der Flachseiten des Substrats (1) strömt und eine die Summe aus Gewichts- und Auftriebskraft des Substrats (1) aufhebende Tragekomponente sowie eine in Transportrichtung gerichtete Vorschubkomponente aufweist, so dass das Substrat (1) ohne mechanische Hilfsmittel getragen und transportiert wird. Die erfindungsgemäße Vorrichtung umfasst einen Transportkanal (2) zur Aufnahme eines flüssiges Mediums (F) sowie eines innerhalb dieses Mediums (F) in vertikaler Ausrichtung zu führenden Substrats (1), wobei der Transportkanal (2) in den Wänden (3, 4) Einströmöffnungen (5) aufweist.L'invention concerne le domaine du transport de substrats plats comme par exemple des substrats de silicium. L'invention concerne en particulier le transport particulièrement précautionneux et continu de tels substrats. Le procédé selon l'invention sert au transport d'un substrat (1) plat orienté verticalement, ayant deux côtés plats, dans un sens de transport à l'intérieur d'un canal de transport (2) rempli au moins en partie d'un milieu liquide (F), ce dernier (F) s'écoulant contre au moins un des côtés plats du substrat (1) et présentant une composante porteuse neutralisant la somme de la force pondérale et de la force ascensionnelle du substrat (1) ainsi qu'une composante d'avancement orientée dans le sens de transport de sorte que le substrat (1) est porté et transporté sans moyen auxiliaire mécanique. Le dispositif selon l'invention comprend un canal de transport (2) destiné à recevoir un milieu liquide (F) ainsi qu'un substrat (1) à guider dans une orientation verticale à l'intérieur de ce milieu (F), le canal de transport (2) présentant dans les parois (3, 4) des ouvertures d'afflux (5)

Banzhaf, Hannah

Frenssen, Teresa

Nowack, Patrick

Reim, Sofia

Sautermeister, Christian

Schwarz, Alexander

Hochschulschriftenserver der Hochschule Offenburg

Procédé et dispositif de transport de substrats plats

Verfahren und Vorrichtung zum Transport flacher Substrate

Verfahren und Vorrichtung zum Transport flacher Substrate

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