Verfahren zum Einstellen der Emission einer OLED

Abstract

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Einstellen der Emission einer OLED (1), umfassend ein Substrat (2), auf welchem mindestens folgende Schichten abgeschieden werden: eine erste Elektrodenschicht (3), mindestens eine organische Schicht (4) und eine zweite Elektrodenschicht (5), wobei nach dem Abscheiden der mindestens einen organischen Schicht (4), die OLED (1) zumindest in einem Flächenbereich mit beschleunigten Elektronen eines Elektronenstrahls (7) beaufschlagt wird