Fabrication of vertically oriented silicon nanowire arrays on silicon substrate using metal assisted etching method

Abstract

半導体ナノワイヤは高効率太陽電池や高感度バイオセンサなど様々な用途が期待されている材料である。特にシリコンナノワイヤはCMOSテクノロジーとの高い親和性から注目を集めている。本稿ではこの金属触媒と溶液を用いたシリコンナノワイヤの自己組織的な形成方法とその形状制御の試みについて説明する