Purpose: To evaluate the influence of the light curing protocol in the shear bond strength of a sealant to enamel treated with two self-etching adhesive systems, in salivary contamination conditions. Materials and Methods: The dental sealant (Delton, Dentsply) was applied, after saliva contamination, onto the vestibular enamel of sixty human incisors treated with Xeno III (Dentsply) or Prompt-L-Pop (3M/Espe). These two groups were further divided into two subgroups (n = 15) according to the curing time: 1) the adhesive system was cured with the sealant (co-polymerization), and 2) adhesive and sealant were light cured independently (independent polymerization). After the adhesive procedures, specimens were stored in water (37 °C–24 h) and thermal-cycled. Shear bond strength tests were done in an universal testing machine. Data was analyzed with two-way ANOVA. Results: There were no statistical differences (p = 0.267) between the adhesive systems tested. The co-polymerization groups (33.3 ± 9.4 MPa) yielded statistically higher shear bond strength values than the independent polymerization groups (28.2 ± 4.7 MPa). Even with saliva contamination, the self-etching adhesive systems used yielded high shear bond strength values. Conclusions: In the conditions tested, the co-polymerization of the adhesive systems with the sealant led to higher bond strength values to enamel than the independent polymerization.Objectivos: Avaliar a influência do momento da fotopolimerização de dois sistemas adesivos auto-condicionantes, nos valores de resistência adesiva de um selante de fissuras ao esmalte, em condições de contaminação salivar. Materiais e Métodos: O selante de fissuras (Delton, Dentsply) foi aplicado, após contaminação salivar, sobre o esmalte vestibular de sessenta incisivos humanos condicionados com Xeno III (Dentsply) ou Prompt-L-Pop (3M/Espe). Estes dois grupos foram posteriormente divididos em dois subgrupos (n = 15) de acordo com o momento da fotopolimerização do sistema adesivo: 1) o sistema adesivo foi fotopolimerizado conjuntamente com o selante (co-polymerization), e 2) sistema adesivo e selante foram fotopolimerizados independentemente (independent polymerization). Os espécimes foram armazenados em água (37 °C–24 h) e, posteriormente, submetidos a termociclagem. Os ensaios de resistência adesiva foram realizados numa máquina de testes universal. Os resultados foram submetidos a análise estatística ANOVA duas vias. Resultados: Não foram registadas diferenças estatisticamente significativas (p = 0,267) entre os sistemas adesivos usados. Os grupos co-polimerizados obtiveram valores de resistência adesiva mais elevados (33,3 ± 9,4 MPa) relativamente aos grupos em que a polimerização foi realizada de forma independente (28,2 ± 4,7 MPa). Mesmo na presença de contaminação salivar, os sistemas adesivos auto-condicionantes testados obtiveram valores de resistência adesiva elevados. Conclusões: Nas condições testadas, a co-polimerização do sistema adesivo com o selante originou valores de resistência adesiva ao esmalte superiores relativamente à polimerização independente destes dois materiais.info:eu-repo/semantics/publishedVersio
