抑制空间烧孔效应的分布反馈激光器的制作方法

Abstract

 一种抑制空间烧孔效应的分布反馈激光器的制作方法,包括如下步骤：步骤1：选择一衬底；步骤2：在衬底上依次生长介质掩模,涂光刻胶,光刻,两条介质掩模形成介质掩膜图形,两条介质掩模之间为生长窗口；步骤3：在制作有介质掩膜图形的衬底1上外延制作多量子阱有源区；步骤4：在多量子阱有源区的表层制作均匀光栅；步骤5：腐蚀去掉介质掩膜,在均匀光栅上生长包层和电接触层；步骤6：在电接触层上涂光刻胶,光刻；步骤7：采用湿法腐蚀,在电接触层上制作出脊波导结构；步骤8：在脊波导结构的顶端制作正面电极；步骤9：将衬底减薄后在衬底的底部制作背面电极,完成制作