Прямі вимірювання за допомогою TEM, HRTEM, XRD и SEM з мікроаналізом показали, що термічний відпал при 1300 °С на повітрі призводить до утворення нанорозмірних фаз 10÷15 нм з AlN,
AlB2, Al2O3 і TiO2, а іонна імплантація негативних іонів Au- призводить до фрагментації (зменшення)
розмірів нанозерен до 2-5 нм з утворенням «сфероїдів» з Au– і формуванню аморфної оксидної плівки в
глибині (приповерхневому шарі) покриття.Прямые измерения с помощью TEM, HRTEM, XRD и SEM с микроанализом показали, что термический отжиг 1300 С на воздухе приводит к образованию наноразмерных фаз 1015 нм из AlN, AlB2,
Al2O3 и TiO2, а ионная имплантация отрицательных ионов Au- приводит к фрагментации (уменьшению) размеров нанозерен до 2-5 нм с образованием «сфероидов» из Au– и формированию аморфной
оксидной пленки в глубине (приповерхностном слое) покрытия.Direct measurements were performed using TEM, HRTEM, XRD and SEM with microanalysis. The results
showed that the thermal annealing at 1300 С in air leads to the formation of nanoscale phases
1015 nm from AlN, AlB2, Al2O3 and TiO2. Moreover, the ion implantation of the negative ions Au– causes
fragmentation (decrease) of the size of nanograins to 2-5 nm with the formation of Au– clusters. In addition,
the ion implantation leads to the formation of an amorphous oxide film in the depth (at the undersurface
layer) of the coating
