Croissance de semi-conducteurs à grand gap

Abstract

Colloque avec actes et comité de lecture. Internationale.International audienceLa modélisation et la simulation des procédés de croissance tel que le transport physique en phase vapeur (PVT), le dépôt chimique en phase vapeur (CVD ou HTCVD) et les techniques hybrides (CFPVT), sont suffisamment au point pour être utilisées comme des outils de compréhension des phénomènes physiques couplés et comme des outils de conception de nouveaux procédés et d'optimisation de procédés existants. La modélisation des procédés d'élaboration rassemble plusieurs voies physico-chimiques de complexité variable, depuis des études thermodynamiques et/ou cinétiques jusqu'aux transferts simultanés de matière et de chaleur couplées avec les bases de données et propriétés thermodynamiques et/ou cinétiques et de transport. Différentes voies de modélisation sont utilisées, thermodynamiques, cinétique ou transfert de masse, de façon couplée ou découplée, permettant de visualiser l'évolution de la croissance et ainsi comprendre le rôle complexe et fortement couplé des phénomènes