Проведено фізичний аналіз йонного травлення поверхні широковживаних матеріалів мікроелектроніки;наведені результати моделювання розробленою програмоюThe physical analysis of ion etching
of surfaces which are often used in microelectronics is carried out; the article contains results of modeling using developed programПроведен физический анализ ионного травления поверхности часто используемых материалов
микроэлектроники, а также результаты моделирования разработанной программо
