Описано схему обладнання для моніторингу поверхні в процесі полірування, що здійснюється за допомогою оптичних методів. Відношення інтенсивності променю, що відбивається від поверхні, до інтенсивності падаючого променю дозволяє оцінити коефіцієнт відбивання in situ. Встановлено, що в процесі зменшення шорсткості поверхні її коефіцієнт відбивання збільшується.The optical monitoring system for finishing processing surfaces is described. The relation of intensity of the beam reflected from a surface, to intensity of a falling beam allows to estimate a reflexion index in situ. Increase of reflexion index in process of roughness decrease is established.Описана схема установки для мониторинга поверхности в процессе полирования, осуществляемого при помощи оптических методов. Отношение интенсивности луча, отраженного от поверхности, к интенсивности падающего луча позволяет оценивать коэффициент отражения света in situ. Установлено, что в процессе уменьшения шероховатости поверхности ее коэффициент отражения увеличивается
