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芦荟横切薄层培养再生植株(简报)

Abstract

以芦荟横切薄层在改良MS+6-BA3.5mg/L(单位下同)+IBA0.3培养基上,芽诱导率可达95%以上;丛生芽于改良MS+6-BA 2.5+IBA0.2培养基培养可增殖;在改良MS+NAA0.5培养基上经15~20d可产生健壮根系

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