Halbleitertechnologien 1. Plasmaaetzen. 2. Hochdruckoxidation. Abschlussbericht. Berichtzeitraum: 1.7.1977 - 31.12.1979

Authors: R. Blaha
K. Eisele
Freiburg im Breisgau (Germany, F.R.). Inst. fuer Angewandte Festkoerperphysik Fraunhofer-Gesellschaft zur Foerderung der Angewandten Forschung e.V.
Publication date: 1 January 1980
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SIGLEDEGerman

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