Entwicklung von Verfahren und Ausruestung fuer die Produktion von Halbleiterbauelementen mit Elektronenstrahllithografie bis zum Sub-0,25#mu#m Niveau

Authors
Publication date
1 January 1998
Publisher

Abstract

Available from TIB Hannover: F00B63+a / FIZ - Fachinformationszzentrum Karlsruhe / TIB - Technische InformationsbibliothekSIGLEBundesministerium fuer Bildung und Forschung (BMBF), Bonn (Germany)DEGerman

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