3D UV Tiefenlithographie. Teilvorhaben: Darstellung und Charakterisierung eines Positiv-Photoresists fuer die UV-Tiefenlithographie Abschlussbericht

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Publication date
1 January 1998
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Abstract

SIGLEAvailable from TIB Hannover: F99B501+a / FIZ - Fachinformationszzentrum Karlsruhe / TIB - Technische InformationsbibliothekBundesministerium fuer Bildung, Wissenschaft, Forschung und Technologie, Bonn (Germany)DEGerman

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