Revistes Catalanes amb Accés Obert

Revista de la Societat Catalana de Química, núm. 14 (2015), p. 93-94 ISSN: 2013-9853
Filial de l’Institut d’Estudis Catalans http://revistes.iec.cat/index.php/RSCQ 
93
Químics catalans al món: Elba Gomar i Nadal
Intel Corporation, Califòrnia (EUA)
La doctora Elba Gomar i Nadal i l’edifici Robert Noyce d’Intel, a Santa Clara, Califòrnia (EUA).
Trajectòria científica  
i professional
E
lba Gomar i Nadal (Barcelona, 1978) va estudiar 
química a la Universitat de Girona (1996-2000). 
A continuació, va realitzar la tesi doctoral, sota 
la direcció del professor David Amabilino, al 
grup liderat pels professors Jaume Veciana i 
Concepció Rovira, al Departament de Nanocièn-
cia Molecular i Materials Orgànics de l’Institut 
de Ciència de Materials de Barcelona (ICMAB-CSIC) (2000-
2004). La seva recerca es va centrar en el disseny, la síntesi i la 
caracterització de monocapes i polímers electroactius amb 
propietats electròniques i òptiques interessants per a aplicaci-
ons nanotecnològiques [1]. Durant els estudis doctorals, va te-
nir l’oportunitat de col·laborar amb el grup del professor De 
Feyter, de la Universitat de Leuven (Bèlgica) [1]; el grup dels 
professors Nolte i Rowan, de la Universitat de Nijmegen (Ho-
landa) [1], i el grup del professor Lindsay, de la Universitat Es-
tatal d’Arizona (EUA) [1], on va conèixer el seu futur marit.
L’any 2005, inicià una estada postdoctoral al Departament 
de Física de la Universitat de Maryland (EUA). Sota la super-
visió de la professora Ellen Williams, va estudiar els efectes 
d’impureses en el creixement de capes de semiconductors 
orgànics i la seva influència en les propietats elèctriques de 
transistors d’efecte de camp [1]. També va desenvolupar 
nous tractaments de superfície per millorar l’adhesió de  
la capa de transferència en la fabricació de dispositius elec-
trònics mitjançant nanolitografia d’impressió per transfe-
rència [1].
L’any 2007, es va incorporar a Intel, on s’inicià en el món de 
l’empresa. Intel és una multinacional líder en el disseny i la 
fabricació de microprocessadors i circuits integrats. Les seves 
plataformes són usades en una àmplia gamma d’aplicacions: 
ordinadors personals (PC, ultrabooks), centres de dades, taule-
tes, telèfons intel·ligents, cotxes, equipament industrial i dis-
positius mèdics.
Inicialment, es va integrar al grup de Metrologia de la planta D2, 
dedicada a la fabricació de memòria flaix (Santa Clara, Cali-
fòrnia, EUA). El seu principal interès va ser el desenvolupa-
ment, qualificació i implementació de metrologia òptica de 
capes primes (reflectometria, espectrometria i elipsometria) i 
la coordinació de transferència de tecnologia a la planta d’alt 
volum (F18, Israel).
L’any 2008, va començar una nova etapa dins d’Intel, al grup 
de Metrologia de la planta de fabricació de màscares òptiques 
(photomasks) de Santa Clara. La demanda de màscares per a 
la fabricació de xips i la seva complexitat creix a cada node 
tecnològic amb l’extensió de la litografia òptica de 193 nm 
per immersió via multipatterning [2]. En paral·lel, són cons-
tants els esforços per desenvolupar la litografia d’ultraviolat 
extrem (EUV) [2].
Correspondència: Elba Gomar i Nadal
Intel Corporation
3065 Bowers Ave. Santa Clara, CA 95054, USA
Tel.: +1 408 765 7901
A/e: elba.gomar-nadal@intel.com
Revista Quimica 14.indd   93 17/12/2015   8:40:18
94
Actualment, lidera el grup de Metrologia i és responsable de 
planificar, seleccionar, instal·lar i qualificar la maquinària  
de l’àrea de metrologia per al desenvolupament i la fabrica- 
ció de màscares òptiques. També coordina els processos  
relacionats amb la introducció de nous productes i la transfe-
rència de tecnologia a la nova planta d’alt volum de fabricació 
de màscares d’Oregon (EUA).
Referències i altres fonts
[1] Llista completa de les publicacions d’Elba Gomar i Nadal: 
http://scholar.google.com/citations?user=Mnmmn6oAAAAJ 
&hl=en&cstart=20&pagesize=20 [Consulta: 12 maig 2015].
[2] Chip Design: Tools, Technologies & Methodologies: http://
chipdesignmag.com/display.php?articleId=5306 [Consulta:  
12 maig 2015].
Revista Quimica 14.indd   94 17/12/2015   8:40:18


Químics catalans al món: Elba Gomar i Nadal Intel Corporation, Califòrnia (EUA)

Abstract

Similar works

Full text

Available Versions

Revistes Catalanes amb Accés Obert