Bond strength of a pit-and-fissure sealant associated to etch-and-rinse and self-etching adhesive systems to saliva-contaminated enamel: individual vs. simultaneous light curing

Abstract

This study evaluated in vitro the shear bond strength (SBS) of a resin-based pit-and-fissure sealant [Fluroshield (F), Dentsply/Caulk] associated with either an etch-and-rinse [Adper Single Bond 2 (SB), 3M/ESPE] or a self-etching adhesive system [Clearfil S3 Bond (S3), Kuraray Co., Ltd.] to saliva-contaminated enamel, comparing two curing protocols: individual light curing of the adhesive system and the sealant or simultaneous curing of both materials. Mesial and distal enamel surfaces from 45 sound third molars were randomly assigned to 6 groups (n=15), according to the bonding technique: I - F was applied to 37% phosphoric acid etched enamel. The other groups were contaminated with fresh human saliva (0.01 mL; 10 s) after acid etching: II - SB and F were light cured separately; III - SB and F were light cured together; IV - S3 and F were light cured separately; V - S3 and F were light cured simultaneously; VI - F was applied to saliva-contaminated, acid-etched enamel without an intermediate bonding agent layer. SBS was tested to failure in a universal testing machine at 0.5 mm/min. Data were analyzed by one-way ANOVA and Fisher's test (α=0.05).The debonded specimens were examined with a stereomicroscope to assess the failure modes. Three representative specimens from each group were observed under scanning electron microscopy for a qualitative analysis. Mean SBS in MPa were: I-12.28 (±4.29); II-8.57 (±3.19); III-7.97 (±2.16); IV-12.56 (±3.11); V-11.45 (±3.77); and VI-7.47 (±1.99). In conclusion, individual or simultaneous curing of the intermediate bonding agent layer and the resin sealant did not seem to affect bond strength to saliva-contaminated enamel. S3/F presented significantly higher SBS than the that of the groups treated with SB etch-and-rinse adhesive system and similar SBS to that of the control group, in which the sealant was applied under ideal dry, noncontaminated conditions.Este estudo avaliou in vitro a resistência ao cisalhamento (RC) de um selante resinoso [Fluroshield (F), Dentsply/Caulk] em associação com um sistema adesivo de condicionamento total [Adper Single Bond 2 (SB), 3M/ESPE] ou auto-condicionante [Clearfil S3 Bond (S3), Kuraray Co., Ltd.] após contaminação salivar do esmalte, comparando dois protocolos: fotopolimerização individual do sistema adesivo e do selante ou simultânea de ambos os materiais. Superfícies mesiais e distais de esmalte de 45 terceiros molares hígidos foram aleatoriamente alocadas em 6 grupos (n=15), de acordo com a técnica adesiva empregada: I - F foi aplicado sobre o esmalte condicionado com ácido fosfórico a 37%. Os demais grupos foram contaminados com saliva (0,01 mL por 10 s) após o condicionamento ácido. II - SB e F foram fotopolimerizados separadamente; III - SB e F foram fotopolimerizados simultaneamente; IV - S3 e F foram fotopolimerizados separadamente; V - S3 e F foram fotopolimerizados simultaneamente; VI - F foi aplicado sobre o esmalte condicionado e contaminado sem sistema adesivo. RC foi testada em uma máquina universal de ensaios (0,5 mm/min; 50 kgf) e os dados analisados por ANOVA a 1 fator e teste exato de Fisher (α=0,05). As interfaces adesivas foram analisadas quanto ao padrão de fraturas em estereomicroscópio. Três espécimes de cada grupo foram analisados qualitativamente em microscópio eletrônico de varredura. As médias de RC em MPa foram: I-12,28 (±4,29); II-8,57 (±3,19); III-7,97 (±2,16); IV-12,56 (±3,11); V-11,45 (±3,77); e VI-7,47 (±1,99). Conclui-se que a fotopolimerização individual ou simultânea do sistema adesivo e do selante não afetou os valores de RC ao esmalte contaminado. S3/F apresentou RC estatisticamente maior do que os grupos tratados com o sistema adesivo etch-and-rinse SB e estatisticamente semelhante ao grupo controle, no qual o selante foi aplicado em condições ideais, na ausência de contaminação salivar