Dispositivo y método para limpiar superficies con haz de gases en vacío y ultra alto vacío

Abstract

[EN] The present invention relates to a device and a method for cleaning surfaces using a beam consisting of gases under vacuum or ultra high vacuum. Both the device and method involve bombarding with molecules, not ionized particles. The device comprises: a differential pump system (5) and a chamber (6) which comprises: an inlet (7) for the injection of a non-ionized gas (11); a molecule aggregation zone (8); a nozzle (9) with an outlet (10) that can be connected to the differential pump system and to the vacuum or ultra high vacuum system (2); wherein the gas molecules enter the aggregation zone where they are accelerated by the differential pump system, so that the molecules collide, forming a beam (12) of aggregated molecules that pass through the outlet of the nozzle before striking the surface (3) of the object (4) to be cleaned[ES] La presente invención propone un dispositivo y un método para limpiar superficies con haz de gases en vacío y ultra alto vacío. Ambos, dispositivo y método, se basan en bombardeo de moléculas y no de partículas ionizadas. El dispositivo comprende: un sistema de bombeo diferencial (5) y una cámara (6) que comprende: una entrada (7) para la inyección de un gas no ionizado (11); una zona de agregación (8) de moléculas; un embudo (9) que comprende una salida (10) conectable con el sistema de bombeo diferencial y con el sistema de vacío o ultra alto vacío (2); tal que las moléculas del gas entran en la zona de agregación donde son aceleradas por el sistema de bombeo diferencial, de forma que las moléculas chocan entre sí formando un haz de agregados moleculares (12) que atraviesan la salida del embudo hasta chocar con la superficie (3) del objeto a limpiar (4)Peer reviewedConsejo Superior de Investigaciones CientíficasA1 Solicitud de patente con informe sobre el estado de la técnic