Інститут фізики напівпровідників ім. В.Є. Лашкарьова НАН України
Abstract
The paper presents a study on modeling the mechanical interaction between the tip of a scanning atomic force microscope (AFM) and surfaces of various types, which makes it possible to optimize parameters and modes for mechanical AFM nanolithography. The practical assessment of mechanical nanoprobe lithography based on the method of a direct surface patterning was carried out during fabrication of functional elements for molecular electronics. Polymethine dye nanowires of a specified configuration and the cross-section 3×20 nm have been successfully formed in a multilayer polytetrafluoroethylene/gold/silicon nanostructure.В роботі представлено моделювання механічної взаємодії вістря скануючого атомно-силового мікроскопа (АСМ) з поверхнями різних типів, що дає можливість оптимізувати параметри і режими для механічної АСМ нанолітографії. Реалізовано прототип механічної нанозондової літографії за методом прямого нанесення зображення на поверхню при виготовленні функціональних елементів молекулярної електроніки. Зокрема в багатошаровій наноструктурі политетрафторетилен/золо-то/крем¬ній сформовані нитки поліметинового барвника перерізом 3х20 нм.В работе представлено моделирование механического взаимодействия острия сканирующего атомно-силового микроскопа (АСМ) с поверхностями различных типов, что дает возможность оптимизировать параметры и режимы для механической АСМ нанолитографии. Реализовано прототип механической нанозондовой литографии методом прямого нанесения изображения на поверхность при изготовлении функциональных элементов молекулярной электроники. В частности в многослойной наноструктуре политетрафторетилен / золото / кремний сформированы нити полиметиновых красителей сечением 3х20 н
