Vysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství
Abstract
Diplomová práce pojednává o studiu morfologie tenké vrstvy kobaltu na čistém Si(111) a na Si(111) s tenkou vrstvou oxidu křemičitého pomocí metod AFM a XPS. Je také studií selektivního růstu kobaltu na mřížkách vytvořených pomocí fokusovaného iontového svazku a elektronové litografie. Dále je zkoumán růst kovových materiálů (Fe, Co) na povrchovém oxidu vytvořeném na Ni3Al(111).The diploma thesis deals with morphology of cobalt thin film on clean Si(111) and on silicon dioxide thin film on Si(111) studied by AFM and XPS. It is also study of selective growth of cobalt on lattice made by focused ion beam and electron lithography. In the last part, the growth of metals (Fe, Co) on surface oxide on Ni3Al(111) was studied.
