Fabrication of nanostructures using wet chemical etching

Abstract

Tato bakalářská práce se zabývá mokrým anizotropním leptáním křemíku a germania. Ukazuje dva možné přístupy tvorby anizotropních leptů a popisuje pomocné práce nutné k samotnému leptání. Jedná se zejména o přípravu masky elektronovou litografií, odleptání SiO2 resp. GeO2 a nanášení kovových částic.This bachelor's thesis deals with wet anisotropic etching of silicon and germanium. Two different approaches to the formation of anisotropic etch pits are shown. The supporting activities required for etching procedure are described. Especially, preparation of mask by electron beam litography, etching of SiO2 resp. GeO2 and application of metal particles.