Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií
Abstract
Tato práce se zabývá procesem tvorby reliéfních periodických struktur pomocí elektronové litografie. Popisuje, jak navrhnout tyto struktury pomocí počítače a následně je vytvořit elektronovým litografem. Dále se zabývá metodami, kterými můžeme tyto struktury měřit a vyhodnocovat. Tyto metody jsou použity k měření a vyhodnocení binárních periodických mřížek a pomocí získaných dat je stanovena závislost hloubky mřížky na její periodě. Práce se dále zabývá měřením difrakční účinnosti na zhotovených mřížkách a srovnáním závislostí jejich difrakční účinností na hloubce mřížky.This study examines the process of the relief periodic structures creation by way of electron beam lithography. It describes how to design these structures by means of a computer and subsequently how to create them by electron beam lithograph. Moreover, this study explores the methods by which these structures are measured and evaluated. These methods are used to measure and evaulate binary periodic gratings and thanks to obtained data it can be determined the dependence of the depth of grating on its period. The study also contains measurement of diffraction efficiency on manufactured gratings and comparison of the dependence of its diffraction efficiency on the depth of grating.
