TÜBİTAK TBAG01.02.2001ODTÜ Fizik bölümü Katıhal Elektronik Laboratuvarı'nda (KEL) bulunan plazma destekli kimyasal buhar biriktirme düzeneğinde (PECVD), çeşitli tabanlar üzerine a-SiCx:H filmler büyütülerek kızıl altı soğurma (FTIR), görünür bölge optik soğurma ve özdirenç ölçümleriyle hem yasak enerji, hem de yapısal düzen yönünden film büyütme koşullan belirlenmiştir. Arkasından n ve p türü kaplama süreçleri de düzenli bir biçimde ele alınarak başarılmıştır. Son olarak, p-i-n yapılar oluşturularak yayınlanan ışık kaydedilip, dalga boyu dağılımı çıkarılmıştır
