Grundlagen der Solarenergieumwandlung auf der Basis von Fluoreszenzkollektoren.

Der Schwerpunkt der Arbeiten lag in der Messung und Untersuchung von Fluoreszenzfarbstoffen und transparenten Matrixmaterialien hinsichtlich ihrer Eignung für den Einsatz in Fluoreszenzkollektoren. Im sichtbaren Spektralbereich konnte dabei auf neue Farbstoffentwicklungen aus dem Displayanwendungsgebiet zurückgegriffen werden. Insgesamt zeigte es sich, daß im sichtbaren Spektralbereich die Kombination von organischem Farbstoff und Plexiglas zu brauchbaren Ergebnissen sowohl hinsichtlich des Wirkungsgrades wie auch der Stabilität führen kann. In beiden Teilbereichen konnten im Laufe des Vorhabens Verbesserungen erzielt werden. Ein praktischer Einsatz ist jedoch.derzeit noch nicht möglich. Erste Versuchskollektoren befinden sich im Dauerversuch auf einem Freiluftmeßstand. Im roten bzw. infraroten Spektralbereich sind die Eigenschaften der Farbstoffe bzw. Kollektoren noch nicht ausreichend. Eine spezielle Farbstoffentwicklung auf diesem Gebiet hat im Frühjahr 1980 bei der Industrie begonnen

Plasma nitridation optimization for sub-15 A gate dielectrics

The work investigates the impact of plasma nitridation process parameters upon the physical properties and upon the electrical performance of sub-15 A plasma nitrided gate dielectrics. The nitrogen distribution and chemical bonding of ultra-thin plasma nitrided films have been investigated using XPS. It is shown that N-Si3 bonds are dominant in the ultra-thin plasma nitrided films, and that O2=N-Si bonding configuration is observed when no PNA is applied after the plasma nitridation. The EOT reduction due to an increase of N in the film is not a monotonic increasing function of the DPN time. It seems that there is an optimum N concentration for a given thickness of the base oxide that enables the continued down scaling of DPN base dielectrics