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    The beam emittance of negative ion sources

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    Les faisceaux du VIVITRON

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    Dans le VIVITRON, il est prévu d'accélérer une cinquantaine de faisceaux de nature différente et d'énergie variable pouvant atteindre 20 MeV/n pour les ions lourds « légers » et 5 MeV/n pour les ions les plus lourds ( A ∼ 200). L'obtention de ces faisceaux avec les excellentes qualités propres aux machines électrostatiques nécessite cependant la mise en oeuvre d'une sélection fine en masse à l'injecteur, d'une sélection en charge après épluchage (gaz ou feuille) au niveau de l'électrode centrale ainsi qu'une sélection en charge et en masse dans un aimant d'analyse placé après la machine et ayant des capacités de déviation adaptées aux faisceaux délivrés ( K = 500)

    Les faisceaux du VIVITRON

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    In the VIVITRON, it is planned to accelerate about fifty beams of different nature and variable energy between 20 MeV/n for « light » heavy ions and 5 MeV/n for the heaviest (A ∼ 200). To obtain these beams with the excellent qualities typical of electrostatic accelerators requires however a fine mass resolution at the injector, a charge selection after stripping (gaz or foil) in the terminal as well as charge and mass selection in the 90° energy analysing magnet, placed after the accelerator. The magnet will have bending capacities adapted to the delivered beams (K = 500 ).Dans le VIVITRON, il est prévu d'accélérer une cinquantaine de faisceaux de nature différente et d'énergie variable pouvant atteindre 20 MeV/n pour les ions lourds « légers » et 5 MeV/n pour les ions les plus lourds ( A ∼ 200). L'obtention de ces faisceaux avec les excellentes qualités propres aux machines électrostatiques nécessite cependant la mise en oeuvre d'une sélection fine en masse à l'injecteur, d'une sélection en charge après épluchage (gaz ou feuille) au niveau de l'électrode centrale ainsi qu'une sélection en charge et en masse dans un aimant d'analyse placé après la machine et ayant des capacités de déviation adaptées aux faisceaux délivrés ( K = 500)
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