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Pertes diélectriques et conducteur dans les guides d’onde coplanaires réalisés sur substrat de silicium haute résistivité
Nouvelle procédure d’extraction des éléments du circuit équivalent des transistors MOS SOI submicroniques
Oscillateurs micro-ondes à faible consommation en technologie CMOS/SOI : de l’étude des dispositifs aux performances
De nos jours, la maturité de la technologie CMOS Silicium-sur-Isolant (SOI) lui offre une place de choix dans le domaine des circuits intégrés hautes fréquences à faible consommation et faible tension d’alimentation, destinés notamment au marché des systèmes de communications sans fils [1]. Nous avons réalisé des oscillateurs intégrés micro-ondes à faible consommation (< 2 mW). Une bonne évaluation du comportement de ces circuits requiert la connaissance du comportement grand signal des transistors SOI. A cette fin, différentes techniques de caractérisation non-linéaire ont été comparées et un modèle grand signal [2] utilisé pour rétro-simuler les circuits. Les mesures des oscillateurs ont mis en évidence l’impact de la technologie et du choix des dispositifs sur les performances