ENTE PER LE NUOVE TECNOLOGIE, L'ENERGIA E L'AMBIENTE ION IMPLANTATION ON NICKEL TARGETS BY MEANS OF A REPETITIVE PLASMA FOCUS DEVICE ION IMPLANTATION ON NICKEL TARGETS BY MEANS OF REPETITIVE PLASMA FOCUS DEVICE

Riassunto Sono stati fatti test per verificare il possibile uso di una macchina Plasma Focus come implantatore di ioni. L'impianto utilizzato è il Plasma focus ripetitivo in funzione presso il Centro ENEA del Brasimone. Il campione da implantare è un foglio di nickel con una superficie di circa 20 cm 2 inserito in una struttura rigida la cui distanza può essere variata con riferimento all'estremo superiore dell'anodo. La macchina Plasma Focus è operata a 0,5 Hz con una pressione di riempimento di Azoto a 4 mbar. Dopo l'irradiazione, il campione è analizzato per mezzo di spettroscopia Auger che fornisce la concentrazione dei vari elementi a differenti profondità d'implantazione. Il risultato dell'analisi dimostra che il Plasma Focus è un'efficace sorgente per implantazione ionica, anche per applicazioni metallurgiche. I risutati sono confermati dalla misura della durezza del campione prima e dopo l'implantazione. Abstract Some test has been done in order to assess the possible use of a Plasma Focus as an implanter. The device utilized is the repetitive Plasma Focus operating in the ENEA Brasimone Center. The implanted sample is a sheet of Nickel with a surface of abou 20 cm 2 inserted in a rigid sample at a variable distance form the top of the anode. The Plasna Focus device is operated at 0,5 Hz using a Nitrogen filling gas at a pressure of 4 mbar. After irradiation the sample is analyzed wit

Transcript Profiling of the Anoxic Rice Coleoptile

Open Access Article: http://www.plantphysiol.org/cgi/content/short/pp.106.093997?keytype=ref&ijkey=pmzFcPOmxUrY7b