Search CORE

28 research outputs found

Modern microwave methods in solid state inorganic materials chemistry: from fundamentals to manufacturing

Author: A. Gavin Whittaker
A. Taflove S. C. H.
Abramovitch R. A.
Adam D.
Agostino A.
Agostino A.
Agostino A.
Agrawal D. K.
Ahlers R.
Al-Harahsheh M.
Alexander A. M.
Anderson A. J.
Andrew Harrison
Appleton T. J.
Arico A. S.
Asmussen J.
Baghurst D. R.
Baldridge T.
Balomey J. C.
Bang C. U.
Bhat M. H.
Binner J.
Biswas A.
Blaszczyk-Lezak I.
Boch P.
Booske J. H.
Bossavit A.
Bowman M. D.
Breval E.
Brooks D. J.
Brooks D. J.
Brooks D. J.
Bud’ko S. L.
Bulou S.
Bykov Y. V.
Cao X. B.
Carassiti L.
Casady J. B.
Chauhan S. R.
Cheng J. P.
Cheng J. P.
Cherian K.
Cherradi A.
Choi J. G.
Chou Y. H.
Chung S. L.
Clark D. E.
Craciun S.
Das B. P.
Datta A. K.
de la Hoz A.
Deksnys T. P.
Demirskyi D.
Ding D. R.
Dong C.
Douthwaite R. E.
Dudnik E. V.
Duncan H. Gregory
Dwivedi R.
Ebadzadeh T.
Essaki K.
Ferguson J. D.
Frecentese F.
Freeman S. A.
Galema S. A.
Gedye R.
Gibbons K. E.
Giehler M.
Giguere R. J.
Gregory D. H.
Grisaru H.
Grisaru H.
Grossin D.
Grossin D.
Gunter M. M.
Guo J.
Guo S.
Harpeness R.
Harrison A.
Hassine N. A.
He J.-H.
Hector A. L.
Helen J. Kitchen
Heller E.
Higuchi M.
Hill J. M.
Hong Y. C.
Houmes J. D.
Hsieh C. Y.
Hu F. P.
Huang J. W.
Huggins R. A.
Iwasaki M.
Jain A.
Jennifer L. Kennedy
Johnson D. L.
Jokisaari J. R.
Jokisaari J. R.
Jung C. U.
Jung K. Y.
Kabouzi Y.
Kaddouri A.
Kang W. N.
Katz J. D.
Kenkre V. M.
Kitiwan M.
Knoerzer K.
Kosolapova T. Y.
Kraus J. D.
Kriegsmann G. A.
Ku H. S.
Kumar P.
Kumar S.
Leadbeater N. E.
Leadbeater N. E.
Leadbeater N. E.
Leadbeater N. E.
Lee B. K.
Lee H. K.
Lekse J. W.
Leonelli C.
Li J.
Liao X. H.
Liao X. H.
Lidstrom P.
Liu B. H.
Liu J.
Liu S. W.
Liu X. Y.
Liu Y. F.
Lollchund M. R.
Lu J. L. L.
Lucia Carassiti
Ludlow-Palafox C.
Majetich G.
Manoharan S. S.
Mastrovito C.
Matsumura Y.
Matthew D. V.
McCauley J. W.
Metaxas A. C.
Mingos D. M. P.
Mingos D. M. P.
Muley P. D.
Nagamatsu J.
Nakayama M.
Niewa R.
Nuria Tapia-Ruiz
Obut A.
Ouerfelli J.
Oyama S. T.
Ozawa T.
Palchik O.
Palchik O.
Palmour J. W.
Pan X. F.
Pang M.
Panigrahi P. K.
Panneerselvam M.
Panneerselvam M.
Panneerselvam M.
Panneerselvam M.
Panzarella B.
Park K. S.
Paulus R. M.
Peelamedu R. D.
Peng J. H.
Peng J. H.
Petrovic J. J.
Pitchai K.
Pivonka D. E.
Prado-Gonjal J.
Qin L.
Raghavan N. S.
Rao K. J.
Rao K. J.
Rao K. J.
Rees E. J.
Reguera E.
Robb G. R.
Robinson J. P.
Robinson J. P.
Robinson J. P.
Rodiger K.
Rowley A. T.
Roy R.
Roy R.
Rybakov K. I.
Rybakov K. I.
Samuel W. Kingman
Saremi-Yarahmadi S.
Saremi-Yarahmadi S.
Satapathy L. N.
Schanche J.-S.
Schmink J. R.
Sears V. F.
Selvam M. P.
Setoudeh N.
Shen P. K.
Sheppard L. M.
Silverwood I.
Silverwood I. P.
Simon R. Vallance
Storms E. K.
Stuerga D. A. C.
Stuerga D. A. C.
Sunil B. R.
Suriwong T.
Suriwong T.
Susaki M.
Sutton W. H.
Terigar B. G.
Thomas P.
Thompson D. C.
Timothy D. Drysdale
Tompsett G. A.
Vaidhyanathan B.
Vaidhyanathan B.
Vaidhyanathan B.
Vaidhyanathan B.
Vaidhyanathan B.
Vallance S. R.
Vallance S. R.
Vallance S. R.
Vanetsev A. S.
Vaucher S.
Vaucher S.
Vileno E.
Wang J.
Wei G. D.
Weppner W.
West C. P.
White G. V.
Whittaker A. G.
Whittaker A. G.
Whittaker A. G.
Whittaker A. G.
Whittaker A. G.
Whittaker A. G.
Wongittharom N.
Wragg D. S.
Wrobel A. M.
Xia Q. L.
Xia Q. L.
Yakovleva I. S.
Yang G.
Yang L.
Yi T.-F.
Yoshino K.
Yu H. T.
Zeng R.
Zhang H. A.
Zhang W. X.
Zhang X. L.
Zhang X.-B.
Zhao X.
Zhao Y.
Zhiyong H.
Zhou B.
Zhou G. T.
Zhou G. T.
Zhou G. T.
Zhou S.-C.
Publication venue: 'American Chemical Society (ACS)'
Publication date: 01/01/2013
Field of study

No abstract available

Crossref

Enlighten

ePubs: the open archive for STFC research publications

Lancaster E-Prints

Wet Etching Of Sputtered Tantalum Thin Films In Naoh And Koh Based Solutions

Author: Dein E.
Peelamedu R.
Sood S.
Sundaram K. B.
Todi R. M.
Publication venue: 'Information Bulletin on Variable Stars (IBVS)'
Publication date: 01/05/2007
Field of study

In this paper, a wet chemical etching technique to selectively etch tantalum thin film in sodium hydroxide and potassium hydroxide based solutions was developed. Tantalum thin films were deposited by a DC-magnetron sputtering technique on silica and yttria-stabilized zirconia (YSZ) substrates. After deposition, the films were etched in hot NaOH/H 2O 2 and KOH/H 2O 2 based solutions with Au/Cr film as a hard mask. The etch rate was studied as a function of temperature and concentration of the etchants. © Springer Science+Business Media, LLC 2006

University of Central Florida (UCF): STARS (Showcase of Text, Archives, Research & Scholarship)