Formation of Ti3SiC2 films by aerosol deposition method

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Optimisation de la conductivité des composants hyperfréquences imprimés par jet d'encre sur des substrats polymères par frittage laser

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Ti3SiC2 thin films produced by aerosol deposition method

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Heteroaggregation of ceramic colloids in suspensions

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How to tune the structure of a binary colloidal suspension ? Coupled experimental and numerical studies

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Aggregation kinetics and gel formation in modestly concentrated suspensions of oppositely charged model ceramic colloids: a numerical study

none6M. A. Piechowiak;A. Videcoq;R. Ferrando;D. Bochicchio;C. Pagnoux;F. RossignolM. A., Piechowiak; A., Videcoq; Ferrando, Riccardo; Bochicchio, Davide; C., Pagnoux; F., Rossigno

Fabrication of dense and adherent ceramic coatings by powder deposition without sintering

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Mise en oeuvre de la méthode de dépôt par aérosol pour la réalisation de revêtements aux propriétés originales

International audienceLa fabrication de matériaux céramiques en couches nécessite typiquement une première étape de mise en forme du film puis une seconde étape de traitement thermique afin de lui conférer les propriétés souhaitées. L'application d'un frittage interdit un certain nombre d'applications de matériaux céramiques dont la température de frittage est incompatible avec celles de matériaux de nature différente (métaux, plastiques, verres). En outre, parmi les nombreux procédés de dépôts céramiques, très peu permettent d'obtenir des objets aux détails très fins, en des temps courts et avec des coûts de fabrication suffisamment bas. Depuis quelques années le procédé de dépôt par aérosol froid 1 suscite un intérêt croissant en raison des nombreux avantages qu'il procure. En revanche ce procédé performant pour les métaux est encore peu adapté aux céramiques. Ainsi, le procédé ADM 2 trouve toute sa place dans l'éventail des procédés de dépôts céramique et s'est fortement développé depuis une dizaine d'années. Le principe est de générer un aérosol sec d'une poudre micronique puis de l'accélérer à travers une buse de projection pour fragmenter les particules solides sur un substrat. Lors de la fragmentation, l'énergie cinétique est transformée en énergie de cohésion, permettant la densification du matériau sans qu'aucun frittage ne soit requis. De plus, les couches obtenues sont nanostructurées. Le CTTC conduit un projet de développement d'une machine à pilotage numérique, capable de réaliser des objets sans intervention d'un opérateur, à l'aide d'un fichier CAO desdits objets (brevet n°FR1160790). Ce projet, nommé INPACT, pour Inorganic Nanostructured Parts by Aerosol Cold Technology, est réalisé en collaboration avec le laboratoire Science des Procédés Céramiques et de Traitements de Surface (Limoges) et l'entreprise CERADROP, fabricant de machine d'impression jet d'encre (Limoges). L'intervention vise à présenter cette nouvelle technologie de dépôts sans frittage, au travers de quelques exemples de réalisations de couches céramiques aux propriétés originales

Growth of dense Ti3SiC2 MAX phase films elaborated at room temperature by aerosol deposition method

International audienceFor the very first time, dense and thick films of Ti3SiC2, a popular MAX-phase material, were elaborated on glass substrates by the aerosol deposition method (ADM) at RT. The influence of some processing parameters on the deposition rate and morphology of the films was studied. The films revealed an adhesive interface with the substrate and a dense internal microstructure with nanocrystallites resulting from a high fragmentation of the initial powder at the impact. The film surface showed different types of structuration, from a flat to a rough one with the presence of craters, whose deepness and diameter were linked to the film thickness. The deposition rate and film morphology were both influenced by the distance of projection and the carrier gas flow. Films with thicknesses ranging from 0.1 to 16 μm were thus obtained with a high deposition rate reaching 4 μm min−1, with a roughness, Ra, lower than 300 nm