Source UVX par génération d'harmoniques d'ordre élevé : applications potentielles à la physique des surfaces

Depuis la première observation de rayonnement UVX par création d'harmoniques d'ordre élevé (HHG) dans un jet de gaz rare, la création d'impulsions laser ultra brèves dans l'UV lointain et le VUV est un domaine d'étude en perpétuel développement. La croissante facilité d'accès à des sources laser femtoseconde et à leurs amplificateurs (CPA) commerciaux a permis de nombreux progrès dans la compréhension des phénomènes fondamentaux, dans sa réalisation et mise au point, ainsi que lors de premières tentatives d'utilisation de ce type de source en spectroscopie. Le projet Birmingham Bright Light Source (BBLS) est basé sur cette idée et ouvre de nouvelles potentialités afin de faciliter l'accès à une source de type 'synchrotron'. Divers systemes sont prêts à être étudiés, dans une seconde chambre ultravide, tels que O2 / graphite (HOPG) ainsi que SF6 ou CCl4 / silicium (100). La région d'énergie créée convient parfaitement à l'étude de petites molécules de ce type où différents processus de photo désorption pourront être observés

Laser etching processes : Towards sub-picosecond X-UV irradiation

Since the first observation of high order harmonic generation (HOHG) in a rare gas jet, the creation of ultrashort laser pulses in the extreme UV (XUV) has been a field of continuous development. The increasing accessibility of femtosecond lasers and chirped pulsed amplifiers (CPA) has helped to fuel research into the fundamentals of the HOHG process [1], its practical implementation and tentative uses of such a source in spectroscopy. One of Our particular interests in the use of this facility is to study the ability of these ultrashort pulses to initiate photochemical processes on clean or adsorbate-covered (SF6 or CCl4) silicon surfaces. More recently, femtosecond or even atto-second laser pulses has been evoked as being the best tools to photo-ablate polymeric materials [2]. VUV studies [3] also demonstrate that higher photon energies applied on the same kind of matter can decrease dramatically the threshold fluence for the onset of ablation. We seek to determine exactly what happens when both conditions (ultrafast and VUV pulses) are combined during irradiation