Ozone Production by an Ultra-Short Triggered Dielectric Barrier Discharge.

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Mesure de la concentration absolue de SiO par spectroscopie d'absorption UV

Le but de cette étude est de développer un diagnostic de mesure de concentration de Si0 adapté à un procédé industriel de dépôt d'oxydes de silicium sur polymères par décharge a barrière diélectrique atmosphérique (DBD). Deux méthodes spectroscopiques basées sur des techniques d'absorption et d'auto-absorption ont été développées. La concentration de Si0 a été estimée par ajustement des spectres synthétiques calculés sur les spectres expérimentaux. Ces deux méthodes permettent de suivre l'évolution temporelle de Si0 durant les phases de décharge et de post-décharge

[OH(X)] measurements by resonant absorption spectroscopy in a high pulse voltage triggered Dielectric Barrier Discharge

Good understanding of the different phases of involved plasma-chemistry is essential for the development of non thermal plasma technologies for pollution control. These techniques are often based on the production of radicals from dissociation parent gases that, in turn, decompose the toxic compounds. Our research concerns OH radical production in a high pulse voltage triggered dielectric barrier discharge (DBD). OH (A2+ - X2 (0,0)) emission in argon-water vapor gas mixtures has been studied. Particular attention has been paid to the influence of water vapor partial pressure on the lifetime and intensity of emitted fluorescence in order to develop a pulse DBD UV light source for spectroscopic investigation. This UV probe allowed to perform OH(X2) time resolved average absolute density measurements in other DBD discharges based on resonant absorption spectroscopy. This diagnostic has been validated in argon and air water vapor mixtures. Temporal behavior of OH(X2) density radicals after a pulse discharge has been studied in argon and air with and without 500 ppm of TCE. This simple and inexpensive tool, compare to more sophisticated laser absorption or LIF measurements, for plasma investigation is very useful to characterize the OH radical potential for pollutant oxidation

Mesure de la concentration absolue de SiO par spectroscopie d'absorption UV

Le but de cette étude est de développer un diagnostic de mesure de concentration de Si0 adapté à un procédé industriel de dépôt d'oxydes de silicium sur polymères par décharge a barrière diélectrique atmosphérique (DBD). Deux méthodes spectroscopiques basées sur des techniques d'absorption et d'auto-absorption ont été développées. La concentration de Si0 a été estimée par ajustement des spectres synthétiques calculés sur les spectres expérimentaux. Ces deux méthodes permettent de suivre l'évolution temporelle de Si0 durant les phases de décharge et de post-décharge

Impulsions nanosecondes de rayons X durs à haut taux de récurrence et en mode rafale à partir d'un système compact et facilement transportable

Les résultats que nous présentons se situent dans la continuité de travaux antérieurs concernant le développement et l'optimisation du générateur X portable SPHINX [1,2]. L'extrapolation de ce générateur à des tensions et des fréquences beaucoup plus élevées, tout en conservant au système son aspect compact, a permis d'obtenir des impulsions très brèves (domaine ns) de photons X durs (jusqu'à 450 keV) en fonctionnement à très haute cadence suivant deux modes distincts : un mode de fonctionnement prolongé jusqu'à des taux de répétition de 400 Hz et un mode rafale de quelques tirs à une fréquence de 1 kHz

Sources flash X compactes à haut taux de répétition

Le besoin de sources flash X compactes se fait de plus en plus ressentir dans divers domaines d'application. Les diodes X alimentées par des générateurs impulsionnels tres haute tension de petite taille sont capables d'émettre des débits de dose élevés dans des impulsion de durée comprise entre 10 et 50 ns. Un net progrès a été réalisé quant à la durée de vie des diodes et à la fiabilité des systèmes permettant ainsi un fonctionnement à dose émise constante durant de longue période de temps. Nous décrirons dans cet article les progrès réalisés au laboratoire GREMI dans le développement de flashes X de taille réduite pouvant produire de fortes doses dans des impulsions nanosecondes à haut taux de répétition (jusqu'a 50 Hz). Suivant la configuration des électrodes, des doses de 2 R par tir, à la fenêtre de sortie, de photons X d'énergie comprise entre 5 et 200 keV peuvent être émises aussi bien par une source linéaire (filament de 10 cm de long) que par une source ponctuelle (spot de diamètre inferieur à 300 µm). Parmi les nombreuses applications, nous donnerons en exemple l'utilisation de telles sources pour l'excitation de milieux gazeux à haute pression.Compact flash x-ray machines are founding extended fields of applications. X-ray diodes driven by repetitive small size pulser have been shown able to deliver high dose rates of x-rays in pulses of 10 to 50 ns duration. Improvments have been done on the life time of the diodes and reliability of the systems to allow operation at constant emitted dose over long periods of time. Described here is the progress obtained at GREMI laboratory in the development of true table-top flash x-ray sources producing strong x-ray doses in nanosecond pulses at high repetition rate (50 Hz). Doses up to 2R, measured at the output window, of xrays between 5 and 200 keV can be generated from either a linear source (up to 10 cm long) or from a focal spot of less 300 µm in diameter depending on the electrode configuration. Among the numerous applications of compact flash x-ray sources, an example is given of the use of these devices for the excitation of high pressure gas samples

Production d'impulsions de photons dans l'UV-VUV

Nous présentons une synthèse des fluorescences produites dans nos conditions expérimentales, dans le domaine UV-VUV (120-400 nm), lors de l'excitation par rayonnement X et par décharge à barrière diélectrique de milieux à base de gaz rares à des pressions (multi)atmosphériques. Dans ce travail, les longueurs d'ondes des émissions, l'origine des fluorescences et les conditions d'excitation sont répertoriés pour les espèces atomiques ou moléculaires, neutres ou ioniques

Diagnostic of hydroxyl radical concentration in high pulse voltage triggered dielectric barrier discharges

Summary form only given. We have developed a diagnostic of absolute concentration measurement based on a time resolved resonant absorption spectroscopy. The probe signal *OH(A2Σ+ -X2Π, λ≈308 nm) is generated in a high pulse voltage triggered DBD probe. The gas mixture (1 atm argon+200 ppm water vapor) was optimized to adjust lifetime and intensity of the *OH(A-X) UV fluorescence. This signal is sent through the main DBD plasma, After absorption, the output signal is used to calculate the *OH(X) concentration in the main discharge. The delay between the onset of the main discharge and the probe pulse can be adjusted in order to probe the fundamental level *OH(X) during the whole post-discharge. This diagnostic has been tested first in argon+water vapor mixtures. Various effects of discharge parameters like input energy or water vapor concentration on the *OH(X) density have been clarified. Next more practical gas mixtures like air+water vapor+pollutant (TCE) mixtures have been investigated. The temporal decay of *OH(X) radical concentration with and without TCE has been studied. The decay frequency of *OH(X)is in good agreement with the literature data and allows to valid this diagnosti

Mesure de la densité de 'OH(X) par Absorption d'un Rayonnement UV Extérieur Auto-accordé (AREA)

La connaissance de l'évolution temporelle de la densité de certaines espèces transitoires dans une décharge est une donnée essentielle dans la compréhension des mécanismes réactionnels et dans l'optimisation de certains procédés plasmas. Les techniques mises en oeuvre pour mener à bien ces mesures sont souvent délicates. Elles font classiquement appel à des méthodes de diagnostics optiques telles que l'absorption laser [1, 2] ou la LIF [3, 4]. Nous présentons ici des mesures basées sur l'Absorption d'un Rayonnement UV Extérieur Auto-accordé (technique AREA). Cette technique a été développée à partir de plasmas atmosphériques créés par Décharges à Barrière Diélectrique impulsionnelles déclenchées (DBD) et a été appliquée à l'évaluation de la densité du radical hydroxyl dans son état fondamental 'OH(X). Cette étude s'inscrit dans le cadre du traitement plasma d'effluents gazeux toxiques par action d'espèces oxydantes