56 research outputs found

    An undergraduate experiment for plasma spectroscopy

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    Characterization of a capacitively coupled RF plasma for SiO2 deposition: numerical and experimental results

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    International audienceA fluid model including an electron beam of hot electrons is presented and used to describe the transport of charged particles in a 13.56-MHz O2 plasma. An increase in the electron density when the RF power increases is observed from Langmuir probe measurements. The calculated evolution of the electron number density shows a reasonable agreement if the secondary emission coefficient is chosen equal to 10−4 on a steel (316L) electrode. The values of the plasma potential increase with increasing RF power from 30 to 35 V at 0.5–0.6 Torr, in the range 100–300 W. Surprisingly, the electron temperature decreases with increasing applied RF power. No clear explanation for this behavior is available yet

    Effects of hydrogen on iron nitriding in a pulsed plasma

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    Time resolved determination of the electron energy distribution function in a DC pulsed plasma

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    Determination of oscillator strengths for UI and UII lines

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    Plasmas micro-ondes en cavité résonnante à la pression atmosphérique (étude des plasmas d'hélium et applications au traitement des matériaux)

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    Les travaux présentés dans ce mémoire portent sur l étude des plasmas d hélium générés par micro-ondes en cavité résonnante à la pression atmosphérique et sur leurs applications en traitement de surfaces. Tout d abord, un état de l art sur les plasmas micro-ondes à la pression atmosphérique et leurs applications est présenté. Ensuite, un modÚle collisionnel-radiatif de la décharge et de la post-décharge d hélium pur est établi. Les résultats du modÚle sont comparés aux mesures expérimentales obtenues à 2500 K et un jeu de sections efficaces et de constantes cinétiques valables pour ces conditions est proposé. Expérimentalement, des analyses par spectroscopie d émission et d absorption sont employées. La température du gaz est déterminée par la méthode du spectre rotationnel synthétique en fonction de la puissance, de la concentration et de la nature des impuretés introduites dans l hélium. Il s avÚre que le volume du plasma est un paramÚtre déterminant sur la température du gaz. La concentration du métastable He(23S), en décharge continue et pulsée, est déterminée par absorption laser. En décharge continue, la concentration du métastable est divisée par trois avec 360 ppm d impureté, la nature de l impureté n ayant pas d importance. En revanche, en post-décharge la nature de l impureté est déterminante. Les mesures réalisées indiquent que He+ et non He2+ serait l ion majoritaire. Concernant les applications de ce type de plasma, nous avons travaillé en post-décharge uniquement. Nous avons démontré la faisabilité du procédé de dépÎt de SiOx à partir d hexaméthyldisiloxane. Nous avons aussi montré que la nitruration du titane à haute température était possibleThe present work deals with the study of helium microwave plasmas at atmospheric pressure generated in a resonant cavity and their applications in surface treatment. First of all, a state of art of microwave atmospheric pressure plasmas and their applications is presented. Next, a collisional-radiative model for pure helium discharge and post-discharge is described. The results of the model are compared to experimental data obtained at 2500 K and a coherent set of cross-sections and rate constants is obtained for these conditions. Emission and absorption spectroscopy diagnostics are employed to characterize the helium plasma. The gas temperature is determined by the rotational synthetic spectra method. The evolution of the gas temperature, as a function of the input power, the concentration and the nature of impurities in helium, is measured. It turns out that the plasma volume plays a significant role on the gas temperature. The He(23S) concentration is determined by laser absorption in pulsed and continuous mode. In continuous mode, the metastable concentration is divided by 3 with 360 ppm of impurity, regardless of the nature of the impurity. Nevertheless, during the post-discharge, in pulsed mode, the nature of the impurity plays an important role. These measurements support the idea that He+ and not He2+ is the main ion. Concerning the applications, only post-discharges are utilized. We demonstrate that deposition of SiOx using hexamethyldisiloxane as precursor can be efficient. We show that titanium nitriding at high temperature is possibleNANCY-INPL-Bib. électronique (545479901) / SudocSudocFranceF

    Excited states of plasmas for steel surface nitriding and TiN deposition

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