Entwicklung eines flexiblen, modularen, vollautomatischen Substratreinigungssystems fuer hoechste Anforderungen in der Halbleiterfertigung (Modularer Substratreiniger) Abschlussbericht

Details are given about the development of a novel cleaning system which is characterized by its capability of cleaning substrates within 250 mm, by uniform, reproducible cleaning results at each point on the substrate surface, minimum medium and energy demands, all-automatic operation, flexibility, and by a modular structure. The research project was completed successfully through implementation of the prototype of an all-automatic modular substrate cleaner. (orig./RHM)Es wurde ein neuartiges Reinigungssystem entwickelt, das gekennzeichnet ist durch die Bearbeitungsmoeglichkeit von Substraten bis 250 mm, gleichmaessige reproduzierbare Reinigungsergebnisse fuer jeden Punkt auf der Substratoberflaeche, minimalen Medien- und Energiebedarf, Vollautomatisierung, Flexibilitaet, sowie einen modularen Aufbau. Das dokumentierte Forschungsvorhaben konnte mit der Realisierung des Prototypen eines vollautomatischen modularen Substratreinigers erfolgreich abgeschlossen werden. (orig./RHM)Available from TIB Hannover: F94B0579+a / FIZ - Fachinformationszzentrum Karlsruhe / TIB - Technische InformationsbibliothekSIGLEBundesministerium fuer Forschung und Technologie (BMFT), Bonn (Germany)DEGerman

SWC - Single Wafer Clean. Entwicklung einer vollautomatischen, clusterfaehigen und modularen Anlage zur nasschemischen Reinigung und Aetzung einzelner Si-Wafer Endbericht

Available from TIB Hannover: F95B2321+a / FIZ - Fachinformationszzentrum Karlsruhe / TIB - Technische InformationsbibliothekSIGLEBundesministerium fuer Forschung und Technologie (BMFT), Bonn (Germany)DEGerman