Remote plasma atomic layer deposition of thin films of electrochemically active LiCoO2

One of the remaining challenges in the field of portable electronics is the miniaturization of lithium-ion batteries without decreasing their storage capacity. To tackle this challenge and to effectively integrate battery technology in even a wider variety of applications, it is essential to produce high quality thin films for all-solid-state batteries. A remote plasma ALD process for the positive electrode material LiCoO2 was developed using the combination of CoCp2 as the cobalt precursor, LiOtBu as the lithium precursor and O2 plasma as the oxidant source. The thin films were deposited at a temperature of 325 °C with a virtually linear growth rate of 0.06 nm/cycle. After annealing the samples at 700 °C for 6 minutes the high temperature phase LiCoO2 was obtained, as demonstrated by XRD and Raman spectroscopy measurements. Electrochemical charge/discharge cycling showed good electrochemical activity with a promising storage capacity

Dental status as a window to general health

Het raakvlak tussen de conditie van het gebit en algemene gezondheid is buitengewoon interessant en relevant. De meeste voorgaande onderzoeken op dit gebied zijn op zoek naar een causaal verband tussen dentale pathologie en systemische ziekten, voornamelijk gebaseerd op afgeleide parameters. Dit proefschrift biedt nieuwe inzichten in deze interactie, uitgewerkt in twee essentiële algemene gezondheidsproblemen: hart- en vaatziekten (als de belangrijkste oorzaak van wereldwijde sterfte) en COVID-19 (als recent voorbeeld van een wereldwijde pandemie). Hiermee wordt een globaler en meer wijdverbreid statement gemaakt over dit boeiende en vooral belangrijke onderwerp. Aandoeningen van het gebit en verschillende systemische ziekten zijn gebaseerd op overlappende complexe pathofysiologische mechanismen, met genetische en epigenetische factoren die interageren met levensstijl en omgevingsfactoren. De resulterende "gevoeligheid" van de gastheer lijkt het fundament van het verband tussen de conditie van het gebit en algemene gezondheid. Bewijs voor mogelijke causale verbanden ontbreekt nog steeds, en de noodzaak voor causale verklaringen verdwijnt steeds meer naar de achtergrond. De conditie van het gebit is nog steeds van ondergeschikt belang. Dat is exact de reden waarom een groter bewustzijn over “het gebit als weerspiegeling van de algemene gezondheid”, moet worden toegevoegd aan de wereldwijde gezondheidsagenda. Door de dentale conditie te vereenvoudigen tot "tandverlies", als het ultieme gevolg van dentale pathologie en slechte mondgezondheid, lijkt dit een snelle en gemakkelijk toegankelijke marker voor de algemene gezondheid. Uiteindelijk moet inspectie van het gebit door alle zorgverleners worden geaccepteerd als een standaard, globaal diagnostisch hulpmiddel

Dental status as a window to general health

Het raakvlak tussen de conditie van het gebit en algemene gezondheid is buitengewoon interessant en relevant. De meeste voorgaande onderzoeken op dit gebied zijn op zoek naar een causaal verband tussen dentale pathologie en systemische ziekten, voornamelijk gebaseerd op afgeleide parameters. Dit proefschrift biedt nieuwe inzichten in deze interactie, uitgewerkt in twee essentiële algemene gezondheidsproblemen: hart- en vaatziekten (als de belangrijkste oorzaak van wereldwijde sterfte) en COVID-19 (als recent voorbeeld van een wereldwijde pandemie). Hiermee wordt een globaler en meer wijdverbreid statement gemaakt over dit boeiende en vooral belangrijke onderwerp. Aandoeningen van het gebit en verschillende systemische ziekten zijn gebaseerd op overlappende complexe pathofysiologische mechanismen, met genetische en epigenetische factoren die interageren met levensstijl en omgevingsfactoren. De resulterende "gevoeligheid" van de gastheer lijkt het fundament van het verband tussen de conditie van het gebit en algemene gezondheid. Bewijs voor mogelijke causale verbanden ontbreekt nog steeds, en de noodzaak voor causale verklaringen verdwijnt steeds meer naar de achtergrond. De conditie van het gebit is nog steeds van ondergeschikt belang. Dat is exact de reden waarom een groter bewustzijn over “het gebit als weerspiegeling van de algemene gezondheid”, moet worden toegevoegd aan de wereldwijde gezondheidsagenda. Door de dentale conditie te vereenvoudigen tot "tandverlies", als het ultieme gevolg van dentale pathologie en slechte mondgezondheid, lijkt dit een snelle en gemakkelijk toegankelijke marker voor de algemene gezondheid. Uiteindelijk moet inspectie van het gebit door alle zorgverleners worden geaccepteerd als een standaard, globaal diagnostisch hulpmiddel

CO3O4 as anode material for thin film micro-batteries prepared by remote plasma atomic layer deposition

Cobalt oxide thin films have been deposited with remote plasma atomic layer deposition (ALD) within a wide temperature window (100–400 °C), using CoCp2 as cobalt precursor and with a remote O2 plasma as oxidant source. The growth rate was relatively high at 0.05 nm per ALD-cycle and resulted in the deposition of high density (~5.8 g cm-3), stoichiometric Co3O4. For the electrochemical analyses, Co3O4 was deposited on a Si substrate covered with an ALD-synthesized TiN layer to prevent Li diffusion. The as-deposited electrodes were investigated in a three-electrode electrochemical cell using constant current (CC) charge/discharge cycling and Galvanostatic Intermittent Titration Technique (GITT) in combination with Electrochemical Impedance Spectroscopy (EIS). Compared to the literature, ALD-deposited Co3O4 exhibited a high electrochemical activity (~1000 mAh g-1) and the formation of a solid electrolyte interface has been identified by EIS

Remote plasma atomic layer deposition of thin films of electrochemically active LiCoO2

One of the remaining challenges in the field of portable electronics is the miniaturization of lithium-ion batteries without decreasing their storage capacity. To tackle this challenge and to effectively integrate battery technology in even a wider variety of applications, it is essential to produce high quality thin films for all-solid-state batteries. A remote plasma ALD process for the positive electrode material LiCoO2 was developed using the combination of CoCp2 as the cobalt precursor, LiOtBu as the lithium precursor and O2 plasma as the oxidant source. The thin films were deposited at a temperature of 325 °C with a virtually linear growth rate of 0.06 nm/cycle. After annealing the samples at 700 °C for 6 minutes the high temperature phase LiCoO2 was obtained, as demonstrated by XRD and Raman spectroscopy measurements. Electrochemical charge/discharge cycling showed good electrochemical activity with a promising storage capacity

CO3O4 as anode material for thin film micro-batteries prepared by remote plasma atomic layer deposition

Cobalt oxide thin films have been deposited with remote plasma atomic layer deposition (ALD) within a wide temperature window (100–400 °C), using CoCp2 as cobalt precursor and with a remote O2 plasma as oxidant source. The growth rate was relatively high at 0.05 nm per ALD-cycle and resulted in the deposition of high density (~5.8 g cm-3), stoichiometric Co3O4. For the electrochemical analyses, Co3O4 was deposited on a Si substrate covered with an ALD-synthesized TiN layer to prevent Li diffusion. The as-deposited electrodes were investigated in a three-electrode electrochemical cell using constant current (CC) charge/discharge cycling and Galvanostatic Intermittent Titration Technique (GITT) in combination with Electrochemical Impedance Spectroscopy (EIS). Compared to the literature, ALD-deposited Co3O4 exhibited a high electrochemical activity (~1000 mAh g-1) and the formation of a solid electrolyte interface has been identified by EIS

Remote plasma ALD of electrochemically active LiCoO2 for application in all-solid-state μbatteries

No abstrac