FIELD INDUCED ANISOTROPY OF CoTi FILMS PREPARED BY R.F. DIODE SPUTTERING

Les variations de l'anisotropie magnétique uniaxiale Ku en fonction des paramètres de dépôts ont été étudiées dans les couches minces amorphes de Co1-xTi déposées par pulvérisation r.f.. La puissance r.f. affecte essentiellement le champ coercitif Hc, tandis que Ku varie fortement avec la pression du gaz pulvérisant. Pour le Co85Ti15 et avec des paramètres de dépôts optmums on obtient Ku = 8.4 x 104 erg/cm3 et Hc = 2 0e. Cette valeur très élevée de Ku serait liée à la structure locale de l'alliage amorphe du type Co-métal.The dependence on deposition parameters of the field induced uniaxial anisotropy Ku is reported in amorphous Co1-xTix thin films prepared by r.f. sputtering. The input r.f. power affects essentially the coercive field Hc, while Ku varies strongly with the pressure of the sputtering gas. For Co85Ti15 alloys one obtains with optimum deposition parameters Ku = 8.4 x 104 erg/cm3 and Hc = 2 0e. This unusually high value of Ku is believed to be related to the amorphous structure of Co-metal type alloys