Ge_xSi_(1-x)/Si中应变的会聚束电子衍射研究

介绍了会聚束电子衍射(CBED)技术与计算机模拟相结合测定Ge_xSi_(1-x)/Si化学梯度层中应变分布的实验结果，提供了一种高空间分辨率、高灵敏度，且适用于任何材料系中微区晶格常数测定及应变分布研究的技术途径

分子束外延InAs量子点材料的透射电子显微镜研究

报道了利用分子束外延技术在(001)GaAs衬底上生长的单层及多层InAs量子点材料的透射电子显微镜(TEM)研究结果，并对量子点的结构特性进行邓讨论。结果表

应变异质结外延材料的缓冲层厚度与Frank-Read源的关系研究

基于能量最小近似模型,研究了应变异质结外延材料中,产生Frank-Read源以释放失配应力所需GeSi合金缓冲层的厚度。对Ge_xSi_(1-x)/Si进行了具体计算,其结果表明:产生Frank-Read源时缓冲层厚度要比临界厚度大得多,L_(min)=1300A是钉扎点间的最小距离。计算结果与LeGoues等的实验结果相符。就作者所知,计算产生Frank-Read源时GeSi合金缓冲层厚度的工作,以前未见报道

半绝缘GaAs衬底中位错对MESFETs旁栅效应的影响

在位错密度不同的LEC半绝缘(SI)GaAs衬底上离子注入制做MESFETs,观察衬底位错对MESFETs旁栅效应的影响。结果表明，衬底中高位错密度可以拟制旁栅效应