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Cr Fe Co Ni Cu Alx高熵合金薄膜之性質研究

By 黃厚鈞

Abstract

[[abstract]]本論文以Cr、Fe、Co、Ni、Cu、Al金屬元素依比例熔煉製成CrFeCoNiCuAl0.5及CrFeCoNiCuAl1.0高熵合金合金靶材,使用DC直流磁控濺鍍方式,將高熵合金靶濺鍍在已氧化之矽基板上製成薄膜。薄膜在大氣或真空中進行各種不同溫度與時間之退火處理,同時進行電阻係數測量。處理完成之試片再進行各項分析,包括SEM微結構觀察、薄厚測量、TEM微結構觀察、EDS成分分析。 結果顯示,以操作功率50W、氬氣流量 17s.c.c.m、濺鍍時間60min的條件下使用DC直流濺鍍,CrFeCoNiCuAl0.5與CrFeCoNiCuAl1.0薄膜厚度平均值分別為0.87μm及0.92μm。初鍍薄膜沉積結構為柱狀結構,熱處理時伴隨的氧化現象使得柱狀結構漸漸消失轉變為層疊粒狀晶結構。薄膜隨著退火時間增加而氧化,氧化會造成電阻上升,而退火初期,薄膜原子因高溫而重新排列、消除缺陷之過程會使電阻下降。CrFeCoNiCuAl0.5薄膜在高溫下耐氧化性比CrFeCoNiCuAl1.0薄膜優秀。但在本論文中,並未觀察到超低電阻(疑似超導)之現象

Topics: 高熵合金, 金屬薄膜, CrFeCoNiCuAl, 薄膜導電性, 退火, 濺鍍, 磁控濺鍍
Year: 2009
OAI identifier: oai:http://ir.lib.pccu.edu.tw/:987654321/1543
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