In this paper, we present the results of a study of TiN thin films which are deposited by a Physical Vapour Deposition (PVD) and Ion Beam Assisted Deposition (IBAD). In the present investigation the subsequent ion implantation was provided with N+2 ions. The ion implantation was applied to enhance the mechanical properties of surface. The thin film deposition process exerts a number of effects such as crystallographic orientation, morphology, topography, densification of the films. The evolution of the microstructure from porous and columnar grains to densel packed grains is accompanied by changes in mechanical and physical properties. A variety of analytic techniques were used for characterization, such as scratch test, calo test, Scanning electron microscopy (SEM), Atomic Force Microscope (AFM), X-ray diffraction (XRD) and Energy Dispersive X-ray analysis (EDAX).U ovom radu pretstavljaju se rezultati istraživanja TiN tankih fi lmova, nanešenih fi zičkim odlaganjem iz parne faze i te podržani ionskim snopom. U ovom istraživanju je izvršena i naknadna ionska primjena sa N+2 ionima. Ionska primjena je sprovedena radi poboljšanja mehaničkih svojstava površina. Proces nanošenja tankih fi lmova karakterizira veliki broj učinaka, kao što su: kristalografska orijentacija, morfologija, topografi ja, gustoća fi lma. Razvoj mikrostrukture od porozne i stubaste u zrnastu gusto pakovanu, se dešava uz istovremenu promjenu mehaničkih i fi zičkih svojstava. Za karakterizaciju su rabljene različite analitičke tehnike, kao što su test zaparavanja, kalo test, skenirajući elektronski mikroskop (SEM), mikroskop atomskih sila (AFM), rentgenska difrakcija X zraka (XRD) i energijska disperzivna analiza X zraka (EDAX)