Universal software for the real-time control of sequential processing techniques

Sequential process control is essential for many thin film processing techniques such as atomic1 and molecular layer deposition2 (ALD and MLD), molecular beam epitaxy,3 and atomic layer etching.4 In these processes, valves or shutters are used to dose precursors in a vacuum reactor. The dosing has to happen in a fully automated and reproducible way and often has to be quite short (e.g., around ∼10 ms for metalor- ganic precursors in ALD). Furthermore, novel hybrid materials require exact control of the composition and grading of their various components to obtain the desired properties.

Gas Cell

patent submitter:Mettler Toledo GmbHDie Erfindung betrifft eine Gaszelle für die spektroskopische, insbesondere absorptionsspektroskopische, Analyse eines Gases, bei der das Gas einem eintretenden Strahlenbündel elektromagnetischer Strahlung ausgesetzt wird und ein von dem Gas austretendes Strahlenbündel elektromagnetischer Strahlung zur Bildung eines Messsignals erfasst wird, wobei die Gaszelle einen Körper aus einem porösen, die elektromagnetische Strahlung streuenden Werkstoff und eine Einkoppeleinrichtung zum Einkoppeln des eintretenden Strahlenbündels in die Gaszelle und eine Auskoppeleinrichtung zum Auskoppeln des austretenden Strahlenbündels aus der Gaszelle aufweis

Simple method for the quantitative analysis of thin copolymer films on substrates by infrared spectroscopy using direct calibration

Automated baseline estimation followed by least squares fitting of copolymer spectrum allows quantification in terms of comonomer volume fraction.</p