Thick oxide MOS transistors for ionizing radiation dose measurement

Les principales propriétés des dosimètres de rayonnement métal-oxyde-semi-conducteur (MOS) sont décrites. Nous présentons les résultats obtenus pour la sensibilité et la stabilité des dosimètres à oxyde de grille épais qui montrent que ce composant a des applications en dosimétrie des personnels et en médecine. Nous discuterons brièvement les améliorations possibles de la sensibilité

Procédé technologique LUMELEC : au carrefour de l’optique et de l’électronique

Chaque année, les installations de l’AIME (Atelier Interuniversitaire de Micro-nano-Electronique) de Toulouse sont utilisées par une quarantaine de filières d’enseignement qui y trouvent tous les moyens techniques pour concevoir, réaliser et caractériser un ensemble de dispositifs électroniques ou des microsystèmes électromécaniques. S’inscrivant dans une volonté d’élargissement de l’offre de formation de cette structure inter-établissement, et afin de répondre à une demande croissante de ses utilisateurs, un nouveau procédé technologique visant la conception, la réalisation et la caractérisation de dispositifs optoélectroniques a été mis en place en 2012 et est suivi aujourd’hui par environ 250 étudiants par an, en provenance de diverses formations universitaires ou écoles d’ingénieurs. Ce procédé, baptisé LUMELEC, a pour objectif de fabriquer, sur un même substrat de silicium, divers photodétecteurs destinés à être caractérisés et dont les performances font l’objet d’une étude comparative en fonction de l’application visée. En rupture avec les approches conventionnelles, nous proposons ici la mise en oeuvre d’une réelle microfabrication par les étudiants, succédant à une phase de modélisation et aboutissant à une caractérisation quasi exhaustive du système réalisé. Ainsi, les contraintes liées à des applications dans des domaines aussi variés que la conversion photovoltaïque, la domotique, la biologie, l’environnement,… sont analysées afin de déterminer les caractéristiques du dispositif le mieux adapté à sa fonction. Aujourd’hui, bénéficiant d’un retour d’expérience sur plusieurs années, nous décrivons dans cet article les principales options retenues pour permettre une mise en oeuvre aisée et « modulaire » de ce projet, et faire en sorte qu’il réponde aux demandes de formations diverses

Nanocrystals inside : fabrication de composants mémoires MOS à base de nanocristaux de silicium

International audienceCet article présente une formation de courte durée, en salle blanche, donnant une approche pratique complète du concept « NANO-INSIDE » appliqué à la réalisation de mémoire de type FLASH par l’intégration de nanocristaux de silicium dans la technologie NMOS. Il aborde toutes les opérations de fabrication des circuits intégrés de type « mémoires », ainsi que leurs caractérisations à la fois matériaux et composants (électriques). In fine, le but est de montrer à un public étudiant comment une information peut être mémorisée avec des objets nanométriques de façon durable et conservée même sans alimentation

Elaboration de couches minces de Silicium sur isolant (SOI) par le procédé Smart-Cut

Nous présentons dans ce travail les études préliminaires dans le but de créer une nouvelle formation pratique en salle blanche sur la thématique de fabrication de substrats SOI (Silicium on Insulator). La méthode de fabrication est basée sur le procédé Smart-CutTM (Soitec/CEA-Leti). L’objectif de ces premiers travaux est de démontrer la faisabilité du procédé avec des wafers de taille réduite (2 pouces) dans un environnement loin des standards (en termes de propreté) normalement requis pour la réalisation du procédé. Le procédé comprend une première étape d’implantation d’ions H, puis une phase de collage moléculaire et d’activation de la fracture par recuit. Des taux de transfert de 80% à 90% ont été obtenus ouvrant la voie vers un enseignement sur la fabrication de SOI par le procédé Smart-CutTM

Capteur de gaz à base de nanoparticules : synthèse de nano-objets par voie chimique, intégration et caractérisation de capteurs élaborés en salle blanche

Le but de cette formation est de proposer à des étudiants (de niveau Master/Ingénieur, ou plus : doctorants, formation continue,…) une étude expérimentale complète sur les capteurs de gaz à base de nanoparticules (NPs). Ces dispositifs permettent en outre d’illustrer les intérêts de l’utilisation de NPs dans le domaine technologique

De la conception à la fabrication de circuits intégrés en technologie CMOS

L’objectif de ce projet pédagogique est de proposer à des étudiants de niveau Master ou Ingénieur en Electronique un module complet leur permettant de se familiariser avec la conception et la fabrication de circuits intégrés analogiques répondant spécifiquement à un cahier des charges. L’autonomie et la prise d’initiatives sont favorisées par le mode d’Apprentissage Par Projet (APP). Le projet, d’une durée totale de 9 journées permettra à une équipe constituée de 2 binômes d’étudiants de réaliser un circuit CMOS personnalisé selon un cahier des charges, à partir de la modélisation de la filière technologique NMOS et PMOS accessibles à la centrale technologique de l’Atelier Interuniversitaire de Micro-nano Electronique (AIME) de Toulouse. Ce projet vise à placer les étudiants dans un contexte proche d’une situation en milieu professionnel, où ils doivent concevoir, réaliser et tester une solution répondant à un cahier des charges. A l’issue des tests expérimentaux, les étudiants présenteront leurs résultats au travers d’un rapport écrit et d’une présentation orale. Ils devront analyser les écarts aux cahiers des charges et les écarts entre calculs théoriques/simulation et mesures ; puis proposer les voies et alternatives qui permettraient d’améliorer leurs solutions

Elaboration de couches minces de Silicium sur isolant (SOI) par le procédé Smart-Cut ^\textrmTM

Nous présentons dans ce travail les études préliminaires dans le but de créer une nouvelle formation pratique en salle blanche sur la thématique de fabrication de substrats SOI (Silicium on Insulator). La méthode de fabrication est basée sur le procédé Smart-CutTM (Soitec/CEA-Leti). L’objectif de ces premiers travaux est de démontrer la faisabilité du procédé avec des wafers de taille réduite (2 pouces) dans un environnement loin des standards (en termes de propreté) normalement requis pour la réalisation du procédé. Le procédé comprend une première étape d’implantation d’ions H, puis une phase de collage moléculaire et d’activation de la fracture par recuit. Des taux de transfert de 80% à 90% ont été obtenus ouvrant la voie vers un enseignement sur la fabrication de SOI par le procédé Smart-CutTM

Elaboration de couches minces de Silicium sur isolant (SOI) par le procédé Smart-Cut TM

International audienceNous présentons dans ce travail les études préliminaires dans le but de créer une nouvelle formation pratique en salle blanche sur la thématique de fabrication de substrats SOI (Silicium on Insulator). La méthode de fabrication est basée sur le procédé Smart-CutTM (Soitec/CEA-Leti). L’objectif de ces premiers travaux est de démontrer la faisabilité du procédé avec des wafers de taille réduite (2 pouces) dans un environnement loin des standards (en termes de propreté) normalement requis pour la réalisation du procédé. Le procédé comprend une première étape d’implantation d’ions H, puis une phase de collage moléculaire et d’activation de la fracture par recuit. Des taux de transfert de 80% à 90% ont été obtenus ouvrant la voie vers un enseignement sur la fabrication de SOI par le procédé Smart-CutTM

Systèmes intelligents pour l'internet des objets

L'INSA de TOULOUSE propose plusieurs parcours transverses pluridisciplinaires en année terminale de formation d'ingénieur. L'un d'eux porte sur l'innovation dans le domaine des technologies de l'internet des objets - Innovative Smart Systems. Les étudiants sont formés à l'innovation, au travers de cours et d'un projet semestriel sur les différentes phases de la démarche : la conception, la mise en oeuvre, la propriété intellectuelle et à la commercialisation d'un «système intelligent». Ainsi, une large part de l'enseignement est dédiée à un projet avec une partie pratique visant à construire un capteur chimique communiquant à base de nanoparticules élaborées par voie chimique. L'ensemble de la démarche d'innovation et le capteur sont présentés devant un jury composé d'industriels du secteur