5 research outputs found

    Advanced germanium p-i-n and avalanche photodetectors for low-power optical interconnects

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    Silicon Integrated Arrays: From Microwave to IR

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    Integrated chips have enabled realization and mass production of complex systems in a small form factor. Through process miniaturization many novel applications in silicon photonics and electronic systems have been enabled. In this thesis I have provided several examples of innovations that are only enabled by integration. I have also demonstrated how electronics and photonics circuits can complement each other to achieve a system with superior performance.</p

    Développement de photodiodes à avalanche en Ge sur Si pour la détection faible signal et grande vitesse

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    To address the issue related to the limitations of metallic interconnects especially in terms of bitrate, Si photonics has become the technology of choice. One of the basic components of photonic circuits is the photodetector: It allows to convert an optical signal into an electrical signal. Photodetectors based on Ge on Si have shown their potential and offer the best alternative to III-V photodetectors, for integration into Si photonic circuits. In this context, the Ge on Si photodiodes have been studied. The optimization of pin photodiodes enabled the achievement of state of the art results. A new approach using a double lateral Si/Ge/Si heterojunction was proposed to increase the responsivity but also to provide a better integration solution, especially with Si modulators. To further increase the sensitivity of the receivers, the use of avalanche photodiodes, is however necessary. SACM (Separate Absorption Charge Multiplication) structure, combining Si low multiplication noise and Ge absorption at telecom wavelengths was first studied. Models have been developed to optimize the devices, and the photodiodes have been fabricated and characterized. The results obtained on the surface illuminated photodiodes (Gain-bandwidth product of 560GHz only -11V) are very encouraging for waveguide integration. On the other hand, Ge on Si pin photodiodes have been studied in avalanche. The small width of the intrinsic region contributed to the multiplication noise reduction thanks to "dead space" effect, and operation at 10Gbps for a gain of 20 and an optical power of -26dBm at only-7V, without using amplifier (TIA), have been demonstrated. These developments open the way to fast, low power consumption and high sensitivity receivers.Afin d’adresser la problématique liée aux limitations des interconnections métalliques en termes de débits notamment, la photonique Si s’est imposée comme une technologie de choix. Un des composants de base des circuits photonique Si est le photodétecteur : Il permet de convertir un signal optique en signal électrique. Les photodétecteurs à base de Ge sur Si ont montré leur potentiel et offrent la meilleure alternative aux photodétecteurs III-V, pour une intégration dans les circuits photoniques Si.Dans ce contexte, les photodiodes à base de Ge su Si ont été étudiées. L’optimisation des photodiodes p-i-n a permis l’obtention de résultats à l’état de l’art. Une nouvelle approche utilisant une double hétéro-jonction latérale Si/Ge/Si a été proposée afin d’augmenter la responsivité mais aussi afin de proposer une meilleure solution d’intégration, avec les modulateurs Si notamment. Pour augmenter encore la sensibilité des récepteurs, l’utilisation de photodiodes à avalanche est cependant nécessaire. La structure SACM (Separate Absorption Charge Multiplication), combinant le faible bruit de multiplication du Si et l’absorption du Ge aux longueurs d’onde télécom, a d’abord été étudiée. Des modèles ont été développées afin d’optimiser le fonctionnement, et ces photodiodes ont été fabriquées et caractérisées. Les résultats obtenus sur des photodiodes éclairées par la surface (produit Gain-Bande passante de 560GHz à seulement -11V) sont très encourageant pour une intégration avec un guide d’onde. D’autre part, les photodiodes p-i-n en Ge sur Si, ont été étudiées en avalanche. La faible largeur de la zone intrinsèque a permis de diminuer le bruit de multiplication par effet « dead space », et le fonctionnement à 10Gbits/s pour un gain de 20 et une puissance optique de seulement -26dBm, pour une tension de -7V, sans utilisation d’amplificateur (TIA), a pu être démontré. Ces développements ouvrent ainsi la voie vers des récepteurs rapides, à faible consommation électrique et grande sensibilité

    Schottky diodes in 40nm bulk CMOS for 1310nm high-speed optical receivers

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    © 2017 OSA. In this paper, the use of Schottky diodes in CMOS as 1310nm photodetectors is proposed. In contrast with regular pn-diodes, these diodes can convert photons with a wavelength longer than 1.1μm to a high bandwidth current through internal photo emission. Distributed layout n-well and p-well Schottky diodes have been fabricated and characterized in 40nm bulk CMOS. The measured 1310nm DC responsivity for the n-well and p-well Schottky diodes is 0.4mA/W and 0.35A/W respectively for 1V reverse bias. To the authors' knowledge, this is the first 1310nm CMOS photodetector reported.status: publishe

    EUROSENSORS XVII : book of abstracts

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    Fundação Calouste Gulbenkien (FCG).Fundação para a Ciência e a Tecnologia (FCT)
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