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TEM-Untersuchungen an Silicidschichten

By Andreas Schubert

Abstract

In dieser Arbeit wurden Ni-Si-Ga-Schichten mit Hilfe der Transmissionselektronenmikroskopie charakterisiert

Topics: Durchstrahlungselektronenmikroskopie, Nickeldisilicid, TEM, dünne Schichten, ddc:530, Elektronenbeugung, Elektronenmikroskopie, Epitaxie, Silicide
Publisher: Universitätsbibliothek Chemnitz
Year: 2005
OAI identifier: oai:qucosa.de:swb:ch1-200501612

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