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Influence des gaz résiduels sur la structure des films d'argent déposés sous vide

By J. Roussel, J.P. Guignard, P. Perio and H. Okuzumi

Abstract

The study, by vacuum evaporation, of the epitaxy of Ag on NaCl at room temperature shows the influence of residual gases present at the beginning of the deposition. Thus, to obtain a 100 % degree of epitaxy, it is necessary to use an evaporation rate less than a certain threshold correlated to the oxygen partial pressure, at least until a layer of an average thickness of 12 Å is obtained. It seems that the real essential agent is the atomic chlorine produced by a reaction of oxygen with the substrate ; the most recent experiments, in which chlorine is directly introduced into the vacuum chamber, have confirmed this fact by allowing epitaxy to be observed at pressures as low as 5 × 10 -7 torr.L'étude, par évaporation sous vide, de l'épitaxie d'Ag sur NaCl à température ambiante met en évidence l'influence des gaz résiduels présents au début du dépôt. Ainsi, pour obtenir un degré d'épitaxie de 100 %, il est indispensable d'utiliser une vitesse d'évaporation inférieure à un certain seuil corrélé à la pression partielle d'oxygène, au moins jusqu'à l'obtention d'une couche d'épaisseur moyenne 12 Å. Il semble qu'en réalité l'agent essentiel soit le chlore atomique provenant d'une réaction de l'oxygène avec le support ; les dernières expériences, dans lesquelles du chlore est introduit directement dans l'enceinte, ont confirmé ce fait en permettant d'observer l'épitaxie à des pressions de 5 × 10-7 torr

Publisher: EDP Sciences
DOI identifier: 10.1051/jphys:019680029011-120100900
OAI identifier: oai:edpsciences.org:dkey/10.1051/jphys:019680029011-120100900
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