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Réalisation d'un montage de projection pour l'ablation submicronique par laser à excimère

By F. Weisbuch and S. Lazare

Abstract

Un montage de projection par laser à excimère KrF permet la mise en forme de faisceaux microscopiques et leur utilisation pour le micro-usinage par photoablation des surfaces de matériaux, en particulier des polymères. La lentille de projection, de grande ouverture numérique, conduit à une résolution submicronique

Publisher: EDP Sciences
DOI identifier: 10.1051/jp4:1999551
OAI identifier: oai:edpsciences.org:dkey/10.1051/jp4:1999551
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